4端子mosトランジスタ - gunma u

79
4端子MOSトランジスタ 群馬大学 松田順一 令和2年度 集積回路設計技術・次世代集積回路工学特論資料 1

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4端子MOSトランジスタ

群馬大学

松田順一

令和2年度 集積回路設計技術・次世代集積回路工学特論資料

1

概要

• 完全チャージ・シート・モデル

• 簡易チャージ・シート・モデル• ソース参照モデル、対称モデル

• 強反転モデル• 完全対称モデル、簡易対称モデル、簡易ソース参照モデル

• 弱反転モデル

• EKV(C. C. Enz, F. Krummenacher, E. A. Vittoz)モデル

• 実効移動度

• 温度依存性

• pチャネル・トランジスタ

• 付録:擬フェルミ電位を用いたモデル(Pao-Sah)

2

(注)以下の本を参考に、本資料を作成。(1) Yannis Tsividis, Operation and Modeling of the MOS Transistor Second Edition, McGraw-Hill, New York, 1999.(2) Yannis Tsividis and Colin McAndrew, Operation and Modeling of the MOS Transistor Third Edition, Oxford University Press, New York, 2011.

nチャネルMOSトランジスタ(基板に対する各端子電圧)

3

x xx +

0=x Lx =

𝑉𝐷𝐵

𝑉𝑆𝐵

𝑉𝐺𝐵+n +n

G

S D

B

𝐼𝐷𝑆

subp−

nチャネルMOSトランジスタ(ソースに対する各端子電圧)

4

𝑉𝐷𝑆

𝑉𝑆𝐵

𝑉𝐺𝑆

+n +n

G

S D

B

𝐼𝐷𝑆

subp−

5

電流電圧特性

Strong inversion

Moderate inversion

Weak inversion

4GSGS VV =

3GSGS VV =

2GSGS VV =

1GSGS VV =

MGS VV =DSV

DSI

HGS VV =

Strong inversion

Moderate inversion

Weak inversion

4GBGB VV =

3GBGB VV =

2GBGB VV =

1GBGB VV =

HBGB VV =

MBGB VV =DBV

DSI

SBV

0

0

ソース基準の IDS-VDS特性 基板基準の IDS-VDS特性

6

電流式モデルの階層

(A) 完全チャージ・シート・モデル

(C) 簡易対称チャージ・シート・モデル

(E) 簡易対称強反転モデル

(B) 簡易ソース参照チャージ・シート・モデル

(F)簡易ソース参照強反転モデル

(D) 完全対称強反転モデル

(G) 弱反転モデル

反転層の微小要素

7

s

x

)(xI

反転層

)(xs )( xxs +

バルク

W

ソース側 ドレイン側

(A)完全チャージ・シート・モデルの導出(1)

8

( )

( )

( )

( ) '

2

'

1

''

''

0

''

'

'00

'

'00

'

'00

,

0

)(

)(

I

Q

Q

tDSsIDS

I

Q

Q

tsIDS

I

Q

Q

tsI

L

DS

It

sI

dQL

WIdQ

L

WI

dQdQL

WI

dQWdQWdxI

Lxx

dx

dQW

dx

dQWxI

xIx

IL

I

sL

s

IL

I

sL

s

IL

I

sL

s

=−=

+−=

+−=

==

+−=

+

   

ここで、

  

   

まで積分すると、からとなる。これを

  

拡散電流から、は、ドリフト電流における電流チャネル内の点

''

'

00

'

00

ILLxI

IxI

sLLxs

sxs

QQ

QQ

=

=

=

=

=

=

=

=

(ソース端の表面電位)

(ドレイン端の表面電位)

(ソース端の反転層電荷密度)

(ドレイン端の反転層電荷密度)

(A)完全チャージ・シート・モデルの導出(2)

9

( ) ( )

( )

( )( ) ( ) ( )

( ) ( ) 21

0

21

0

'

2

23

0

232

0

2

0

'

1

21

'''

'

'''

'

'

0

'

2

'

1

3

2

2

1

,

0

ssLtssLtoxDS

ssLssLssLFBGBoxDS

DSDS

soxBSsFBGBox

OX

BsFBGBoxI

I

IILtDSsIDS

CL

WI

VVCL

WI

II

CQVVCC

QVVCQ

Q

QQL

WIdQ

L

WI

sL

s

−+−=

−−−−−−=

−=−−−−=

+−−−=

−=−=

  

    

は以下になる。とで与えられるから、

)  (  

はとなる。ここで、

   

積分の外に出すと、移動度を一定として、

(A)完全チャージ・シート・モデルの導出(3)

10

( )

( )

( )

となる。

  

  

は、ととすると、

、ドレイン端:ソース端:

  

の関係式においてと以下の

tDBFsL

tSBFs

tCBFs

V

tsLFBGBsL

V

tsFBGBs

sLs

DBCBSBCB

V

tssFBGB

sGB

eVV

eVV

VVVV

eVV

V

/2

/2

00

0

/2

0

+−

+−

+−

+−−=

+−−=

+++=

(A)ドレイン端での表面電位とドレイン基板間電圧

11

)( GBsa V

constant:GBV

)( GBQ VV )( GBW VV )( GBU VV

Weak

DBF V+2

( )SBF V+2

sL

( )0s

DBV

( )SBV

1 2 3

4

5

(A)IDS-VDB特性と表面電位との関係

12

)( GBsa V

0s

DBV

DSV

SBV QV WV

SBV−

0

DSHV DSMV

4GBGB VV =

0

DBVSBV

sL

DSI

Drain end in strong inversion

Drain end in moderate inversion

Drain end in weak inversion

(A)ドレイン~ソース電流成分

13

IDS1:ドリフト電流IDS2:拡散電流

StrongModerateWeak

1DSI

2DSIDSI

axis

log

GBV

完全チャージシートモデル式によって弱反転、中(緩やかな)反転、強反転の全領域を表せる

(A)完全チャージ・シート・モデル式の対称性

14

( ) ( )

( ) ( )

じ式になる。インを入れ替えても同これは、ソースとドレ

  

ここで、

  

から

如く変形できる。ト・モデルは、以下の完全なチャージ・シー

+−−+−=

−=

+

21232'

0

21

3

2

2

1stssstFBGBoxs

ssLDS

DSDS

VVCf

ffL

WI

II

(A)チャネル内の表面電位と反転層電荷

15

( ) ( )

( ) ( )

( )( ) ( )( ) ( )

( )   

も求まる。におけるの式から、のを与える。また、以下におけるこれが、

   

したがって、

  

で表される。における電流は、以下であるから、

  

電流式が、

ssFBGBoxI

IIs

ssL

ss

ssDS

ssLDS

VVCQ

QxQx

ff

fxf

L

x

fxfx

WI

x

ffL

WI

−−−−=

−=

−=

−=

''

''

0

0

0

0

)(

(B)簡易チャージ・シート・モデルの導出(1)

16

( ) ( )

( )( )

( ) sesseseFBGBoxI

I

se

sesse

soxBses

se

se

ox

B

sasses

ox

B

VVCQ

Q

CQC

Q

C

Q

−−−−−−=

+=−−+=

−=−+=−

=

''

'

''

'

'

0

'

'

211

2

  

は次式になる。したがって、

  ここで、

     

ラー展開する。までの任意点)でテイ~(

を簡単化する。

𝑓 𝜓𝑠 = 𝑓 𝜓𝑠𝑒 + ቤ𝑑𝑓(𝜓𝑠)

𝑑𝜓𝑠 𝜓𝑠=𝜓𝑠𝑒

𝜓𝑠 − 𝜓𝑠𝑒

𝑓 𝜓𝑠 = −𝑄𝐵′

𝐶𝑜𝑥= 𝛾 𝜓𝑠

(B)簡易チャージ・シート・モデルの導出(2)

17

( ) ( ) ( )

( )

( )( ) ( )

( )0

'

2

2

0

2

0

'

1

'

0

'

2

2

2'2'

0'

'

'

''

1

1

'''

2

2

1'

'00

ssLtoxDS

ssLssLseseseFBGBoxDS

IILtDS

DS

ILI

ox

I

ox

Q

Q

IsIDS

DSoxsII

CL

WI

VVCL

WI

QQL

WI

I

QQCL

WdQ

CQ

L

WdQ

L

WI

ICddQQ

IL

I

sL

s

−=

−−−+−−−=

−=

−=−=−=

=

 

 

次式が得られる。となる。したがって、

 

は以前と変わらず、一方、

 

は次式になる。になるため、から、

𝑄𝐼𝐿′ = −𝐶𝑜𝑥

′ 𝑉𝐺𝐵 − 𝑉𝐹𝐵 − 𝜓𝑠𝑒 − 𝛾 𝜓𝑠𝑒 − 𝛼 𝜓𝑠𝐿 − 𝜓𝑠𝑒

𝑄𝐼0′ = −𝐶𝑜𝑥

′ 𝑉𝐺𝐵 − 𝑉𝐹𝐵 −𝜓𝑠𝑒 − 𝛾 𝜓𝑠𝑒 − 𝛼 𝜓𝑠0 −𝜓𝑠𝑒

(B)簡易チャージ・シート・モデルの導出(3)(ソース参照モデル)

18

( )( ) ( )

( )

である。

 

はとなる。また、

 

    

はと として近似すると、

0

1

0

'

2

2

0000

'

1

210

21

2

s

ssLtoxDS

ssLssLssFBGBoxDS

DSDSsse

CL

WI

VVCL

WI

II

+==

−=

−−−−−−=

=

19

1:

:

21:

0

=

+=

c

ab

as

いの場合より僅かに小さ

(ソース側での外挿) 表面電位特性の近似  . )B('

'

vsC

Q

ox

B−

sa ssL0s0

a b

c

'

'

ox

B

C

Q−

(C)簡易チャージ・シート・モデルの導出(4)(対称モデル)

20

( ) ( )

( )0

'

2

2

0

2

0

'

1

21

22

21

ssLtoxDS

ssLssLsaFBGBoxDS

DSDS

sa

sase

nCL

WI

nVVC

L

WI

II

n

−=

−−−

−−=

+==

=

  

   

は次式になる。ととなり、

  

 として近似すると、

。の誤差の影響は少ない 全半導体電荷への

いが、の近似の精度は良くなが支配的であるとき、

の近似の精度は良い。が支配的であるとき、

域にある。であるため、弱反転領≪ では、

'

''

''

''

B

BI

BB

BIsas

Q

QQ

QQ

QQ

21

での外挿)( 表面電位特性の近似  sa

ox

B vsC

Q. )C(

'

'

sas

sL0s0

'

'

ox

B

C

Q−

0s

'

'

ox

B

C

Q−

'

'

ox

B

C

Q−

'

'

ox

B

C

Q−

s

'

'

ox

B

C

Q−

0s

'

'

ox

B

C

Q−

(C)順方向と逆方向電流(対称モデル)

22

( ) ( )

( ) ( )

saturationrevDSILt

ox

ILR

saturationDSIt

ox

IF

RFILt

ox

ILIt

ox

IIILtILI

ox

DS

DSDS

IILtDSILI

ox

DS

IQnC

Q

L

WI

IQnC

Q

L

WI

IIQnC

Q

L

WQ

nC

Q

L

WQQQQ

nCL

WI

II

QQL

WIQQ

nCL

WI

n

.,

'

'

2'

,

'

0'

2'

0

'

'

2''

0'

2'

0'

0

'2'2'

0'

21

'

0

'

2

2'2'

0'1

2

2

222

1

,2

−=

−=

−=

−−

−=

−+−=

+

−=−=

     

    

ここで、

  

を求めると、から、

    

)式(・モデルを簡単化した完全チャージ・シート

0

,0

,

0

,0

,

'

0

0

'

F

I

sasSB

R

IL

sasLDS

I

Q

V

I

Q

V

   

    

 大:

   

    

 大:

⇒ p. 17参照

(順方向電流)

(逆方向電流)

(C)MOSトランジスタの動作領域の定義

23

Stronginversion

Moderateinversion

WeakInversion

逆方向動作

順方向動作

0 ,0 , DSDSSBDB IVVV

0 ,0 , DSDSSBDB IVVV

DBV

WV

SBV

QV

WVQV0

𝑉𝑊:中反転領域と弱反転領域の境界での𝑉𝑆𝐵、またはVDB𝑉𝑄:強反転領域と中反転領域の境界での𝑉𝑆𝐵、またはVDB

(D)完全対称強反転モデル

24

( )( ) ( ) ( )

( )( ) ( ) ( ) ( ) ( )

( )( ) ( ) ( ) ( )

( ) ( ) SBGBDBGBDSN

SBDBSBDBFBGBox

SBDBSBDBSBDBFBGBoxDSN

DSNDSsLs

ssLssLssLFBGBoxDS

tFDBsLSBs

sLs

VVgVVgL

WI

VVVVVVVVCL

W

VVVVVVVVCL

WI

II

VVCL

WI

VV

SBDB

,,

3

2

2

1

3

2

2

1

3

2

2

1

62,

23

02

3

0

22

0

'

23

02

3

0

2

0

2

0

'

10

23

0

232

0

2

0

'

1

0000

0

−=

+−+−−−−−−=

+−+−

+−+−−−=

−−−−−−=

=+=++

  

対称である。、ソースとドレインがこれは、次式で表され

  

 

)と、(を代入して、整理するとこの式に、上の

  

式を用いる。リフト成分)の以下の・シート・モデル(ドここで、完全チャージ

)   (但し、    

は以下で表される。とも強反転では、ソースとドレイン端と

(D)完全対称強反転モデル(直接導出)

25

( ) ( )

( )

( )

( ) ( ) CBTBGBoxCBCBFBGBox

CBoxB

ox

BCBFBGBoxI

I

CBI

V

V

DSN

DBCBSBCB

CBI

sIDSN

DSN

DBCBSBCB

CBs

s

VVVCVVVVC

VCQC

QVVVCQ

Q

dVQL

WI

VVLxVVx

dx

dVQW

dx

dQWI

I

VLVVV

xVx

xx

DB

SB

−−=+−−−−−=

+−=

+−−−−=

−=

====

−=−=

==

+=

'

00

'

0

''

'

'

0

''

'

'

0

''

0

0

)(,)0(

)()(

)(

     

      

求まる。全対称強反転モデルがに次式を代入すと、完となる。

  

)まで積分すると、()から(となる。これを、

:定数)  (  

考慮して、はドリフト成分のみを

である。 ここで、

  

は以下になる。では、チャネル内の点

(D)完全対称強反転モデル(飽和点と飽和領域)

26

PSB

PDB

VVDSNDS

DBSB

PDBDS

PDBDSN

DS

DSVVDSNDSDBSBP

GB

WPF

FBGBP

PDBDBDSN

II

VV

VVI

VVII

IIIVVV

V

VV

VVV

VVdVdI

=

=

=

=

=

==

−++−=

=

"

'

'

0

0

22

,

,

:

2

42

0

  

下の如くになる。の場合の飽和電流は以となる。また、

 

   

は、とすると、)をでの電流(飽和電流

で決まる値である。からの電圧としてとなる。これは、外部

界)(弱反転と中反転の境とおくと、ここで、

  

となる。(ピンチオフ電圧)は、における

(D)完全対称強反転モデルでのIDS-VDS特性

27

Non-saturation Saturation

DSI

DBV

PVQV WVSBV

'

DSI

DSNI DSNI

(D)完全強反転モデル

28

PSB

PDB

VVDSNDS

VVDSNDS

II

II

=

=

=

=

"

'

Forward saturation

Reverse satu

ration

Non-saturation

DSNDS II = '

DSDS II =

"

DSDS II =

PV

QV

PVQV0

DBV

SBV

(E)簡易対称強反転モデル(1)

29

( ) ( )

( )

( )

( ) ( )

( )

( ) で飽和)  (  

で飽和)(    

は、次式となる。と逆方向飽和電流順方向飽和電流

  

)は、以下になる。(非飽和領域のを用いると、にととなる。

  

の項を無視して、ら、強反転領域ではこ項は拡散成分であるか内の第の

  

ル簡単化された対称モデ

PSBDBPoxDS

PDBSBPoxDS

DSDS

DBPSBPoxDSN

DSDSNCBPoxIILI

ILI

ox

DS

IILtILI

ox

DS

VVVVn

CL

WI

VVVVn

CL

WI

II

VVVVn

CL

WI

IIVVnCQQQ

QQnCL

WI

QQQQnCL

WI

=−−=

=−=

−−−=

−−

−=

−+−=

2'"

2''

"'

22'

''''

0

2'2'

0'

'

0

'2'2'

0'

2

2

2

2

1

2

2

1

P

FBGBP

Vn

VVV

++=

−++−=

0

0

22

21

42

⇒ p. 22参照

⇒ QI’に関し3端子MOS構造 p.32参照(ピンチオフ近傍の反転層電荷(強反転の場合))

(E)簡易対称強反転モデル(2)

30

( )

( ) ( )

( )( ) ( )

( ) ( )20

'"2

0

''

"'

22

0

'

22'

0000

2

1 ,

2

1

0

2

2

DBTGBoxDSSBTGBoxDS

DSDS

DBDSNPDBDSN

SBDBSBDBTGBoxDSN

DBPSBPoxDSN

FBTTGB

P

P

nVVVn

CL

WInVVV

nC

L

WI

II

dVdIVVI

VVn

VVVVCL

WI

VVVVn

CL

WI

VVn

VVV

V

−−−=−−=

==

−−−−=

−−−=

++=−

  

は、次式になる。と逆方向飽和電流電流この場合、順方向飽和

となる。で、はとなる。

  

、に代入し、整理すると

  

これを、

但し、    

ルを簡単化する。の近似を用いて、モデ 

⇒ VPに関し3端子MOS構造 p.31参照(ピンチオフ電圧の別表現(2))

(F)簡易ソース参照強反転モデル

31

( )( ) ( )

( )( )

( )

( ) SBFBVTDSDSVTGSoxDSN

GSSBGBDSSBDB

SB

SBDB

SBDBSBFBSBGBoxDSN

DBsLSBs

ssLssLssFBGBoxDS

VVVVVVVCL

WI

VVVVVV

VVV

VVVVVVCL

WI

VV

VVCL

WI

SBSB+++=

−−=

=−=−

++==

−−

−+−−−−=

+=+=

−−−−−−=

00

2'

0

1

2

00

'

000

2

0000

'

1

,2

,

21

2

2

 但し、  

。とおくと、次式を得るとなる。ここで、

 但し、        

  

での非飽和電流は、を代入すると、強反転、

   

おいて、照モデルの以下の式に簡単化されたソース参

⇒ p. 18参照

(F)簡易ソース参照強反転モデル(直接導出:1)

32

( )( )

( )( )

( ) SBCBSBFBSBGBox

ox

BCBFBGBoxI

I

SBCBSB

ox

B

oxB

oxB

SBSBCBCBoxB

SBCBSB

ox

B

oxBSBoxB

VVVVVVCC

QVVVCQ

Q

VVVC

Q

CQ

CQ

VVVVvsCQ

VVVC

Q

CQVCQ

−−+−−−−−=

+−−−−=

−−++−

+=−=−−

−−++−

−−

00

'

'

'

0

''

'

0'

'

''

1

''

1

01

''

1

10'

'

''''

1

21. 1

1

 

は次式となる。これから、

  

は、以下になる。)を考えると、(

るため、その代わりにを過剰に見積もっていは、である。

での傾きであり、の は、

  

、2項までとる)するとテイラー展開(最初の

をの辺りでの近似式を使う。直接導出する場合、

(F)簡易ソース参照強反転モデル(直接導出:2)

33

( )

( )

じになる。ソース参照モデルと同となり、簡単化された

     但し、

  

:一定)は、(但し、

、として、積分を行うと、

  

を以下の式に用い、

SBFBVT

DSDSVTGSoxDSN

DSN

SBGSGBSBDSDB

CBI

V

V

DSN

I

VVV

VVVVCL

WI

I

VVVVVV

dVQL

WI

Q

SB

SB

DB

SB

+++=

−−=

+=+=

−=

00

2'

'

'

2

(F)強反転での-QB’/Cox’とチャネル内の逆バイアスVCB

34

0SBV

'

' )(

ox

CBB

C

VQ−

DBVCBV

𝛾 𝜙0 +𝑉𝑆𝐵

𝛾 𝜙0 +𝑉𝐶𝐵

a

b

c

ゼロ次近似

の改善1次近似

次近似テイラー展開による1

:

:

at :

c

b

VVa SBCB =

(F)簡易ソース参照強反転モデル(飽和点と飽和領域)

35

( )

( )( )

( )

2

0

,

2

2

''

'

''

000000

00

2'

TGSoxDS

DS

TGSDSDSDSDSDSN

FBTSBTT

SBTSBFBT

DSDSTGSoxDSN

DSN

VVC

L

WI

I

VVVVVdVdI

VVVVV

VVVVV

VVVVCL

WI

I

−=

−===

++=−++=

+++=

−−=

  

。は、以下の如くになる流となる。この場合の電

)は、(のところでのである。

  

または、

に依存する。は     

  となる。ここで、  

  

は非飽和領域では、

(F)簡易ソース参照強反転モデル(まとめ)

36

( )

( )

( )

−=

−=

−−

=

=

           

    ここで、  

    

れる。は以下の如くにも表さ域を一緒にして、また、非飽和と飽和領

      

 

  

。すなわち、以下になる

 

   

は電流

'

'

'

2'

'

2

'

'2'

''

'

,0

,1

1

,2

,2

,

,

,

DSDS

DSDS

DS

DS

DSDS

DS

DSDSTGS

ox

DSDSDSDSTGSox

DS

DSDSDS

DSDSDSN

DS

DS

VV

VVV

V

II

I

VVVV

CL

W

VVVVVVCL

W

I

VVI

VVII

I

(F)IDSN-VDS特性:含むVDS>VDS’(ソース参照強反転)

37

0DSV

SaturationNon-saturation

DSI

SBV−

DSNI DSNI

'

DSV

'

DSI

(F)IDS-VDS特性(ソース参照強反転)

38

4GSGS VV =

3GSGS VV =

2GSGS VV =

1GSGS VV =

0 DSV

SaturationNon-saturation

DSI

TGSDS

VVV

−='

(F)VSBを変えた場合のIDS-VDS特性

39

DSV

DSI

V2

V0=SBV V3=SBV

V5=GSV

V5=GSV

V4

V3V4

V3

0

DSI

DSV0

(F)パラメータη vs. VDS

40

1

'

DSVDSV

0

𝜂 = ൞1 −

𝑉𝐷𝑆𝑉𝐷𝑆′ , 𝑉𝐷𝑆 ≤ 𝑉𝐷𝑆

0, 𝑉𝐷𝑆 > 𝑉𝐷𝑆′

(F)αの近似(1)

41

の過少見積もり)、の過少見積もり(  

の過剰見積もり一般に、  

似が小さい場合:良い近  

の過剰見積もり)、の過剰見積もり(  

の過少見積もり  

)層幅:一定(ソース端チャネルに沿った空乏  

''

'

0

1

''

'

0

21

1

DSDSI

B

SBDBDS

SB

DSDSI

B

VIQ

Q

VVV

V

VIQ

Q

−=

++=

=

(F)αの近似(2)

42

( )

0

4

3

03

3

21

1

212

2

0

22

41

12

1

,1

)8.05.0(:2

1

+=

=++

+=

++−=

++=

  

:定数     

~修正係数  

SB

SBB

SB

V

kkVkkd

dV

d

(F)IDS vs. VDS特性(α:パラメータ)

43

1 測定2 α=1: 飽和領域でフィッティング3 α=1: 低VDS領域でフィッティング4 α=1.7でフィッティング

DSI

𝑉𝐷𝑆0

1

2

3

4

(F)チャネルの任意点における電位(1)

44

( )

( )

( )( )DBSBGB

CBSBGB

CB

CBSBGBDSN

DBSBGBDSN

DSN

VVVh

xVVVh

L

x

xVx

xVVVhx

WI

x

h

VVVhL

WI

I

,,

)(,,

)(

)(,,

,,

=

=

=

  

の以下の関係を得る。と上2式から、

  

る。での電流は、以下になチャネルに沿う点

は関数である。で表される。ここで、

  

は、強反転領域での電流

VCB(x)

(F)チャネルの任意点における電位(2)

45

( ) ( )

( )( )

( )

−−−

−+=

−−−

−=

−=

−=

−−

=

   

は次式になる。いとして解くと、に関する上2式を等し

  

る。での電流は、以下になう点である。チャネルに沿

          

    

ここで、

   

は電流

2

22

'

'

'

'

'

2

2

'

111)(

)(

)(112

,

,0

,1

12

,

L

xVVVxV

xVI

VxVVV

VVC

x

WI

x

VVV

VV

VVV

V

VVC

L

WI

I

TGSSBCB

CBDS

SBCB

TGS

TGSoxDS

TGSDS

DSDS

DSDS

DS

DS

TGSoxDS

DS

(F)チャネルに沿っての基板からの電位

46

3DSDS VV =

2DSDS VV =

1DSDS VV =

0=DSV

𝑉𝐶𝐵(𝑥)

SBV

0 Lx

VDS 小⇒チャネル電位の傾きはほぼ一定

VDS 大⇒チャネル電位の傾きはドレイン側でより大きくなる

(G)弱反転モデル(基本)

47

( )'

0

'

'

22

42)(

)(

IILtDS

B

GB

FBGBGBsa

GBsas

s

QQL

WI

Q

V

VVV

V

−=

−++−=

 

用いる。・モデルの拡散成分を完全チャージ・シートしたがって、ここでは

ない)存在:ドリフト成分は(電流は拡散成分のみ  

電位チャネルに沿って同じ 

ルに沿って一定)(空乏層深さはチャネ 

しない。はチャネル位置に依存 

の関数になる。となり、

 

 

は、電位弱反転領域では、表面)(' xQI

)(' xQIL

)('

0 xQI

L

x

電子の流れ(拡散)

(G)弱反転モデル(対称モデル)

48

( ) ( )

( ) ( )

( ) tFGBsa

tDBtSB

tDBtFGBsatSBtFGBsa

tCBtFGBsa

V

t

GBsa

As

GB

VV

GBIILtDS

DS

VV

t

GBsa

As

IL

VV

t

GBsa

As

I

ILI

VV

t

GBsa

As

I

eV

NqVI

eeVIL

WQQ

L

WI

I

eeV

NqQee

V

NqQ

QQ

eeV

NqQ

/2)(2

'

0

'

/2)('/2)('

0

''

0

//2)('

)(2

2)(

)(

)(2

2,

)(2

2

,

)(2

2

−−

−−−−

−−

=

−=−=

•−=•−=

−=

   但し、 

  

。は、以下の如くである域のしたがって、弱反転領

   

を以下の如くとする。を用いて、

・  

(空乏領域でも成立)弱反転領域の電荷の式

⇒ 3端子MOS構造 p.20参照

(G)弱反転モデル(対称モデル別表現)

49

( ) ( ) ( ) ( )

( )

( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( )

を得る。

  

を用いると、更に、

  

る。を用いると、以下を得

   

、(対称モデル)の式で弱反転の

tDBTGBtSBTGBtF

tDBPtSBPtF

nnVVVnnVVV

toxDS

TGBP

VVVV

toxDS

ox

As

GBP

Psa

DS

eeenCL

WI

nVVV

eeenCL

WI

C

Nq

VVnV

I

−−−−−

−−−

−−=

−=

−−=

=+

+=+=

000

0

22'

0

22'

'

0

0

1

1

2,

)(21,

(G)弱反転モデル(ソース参照モデル)

50

( )

( )

( )( )

( )  

。で固定)は以下になる( を用いると、ここで、

 

は以下になる。であるから、ここで、

  

以下である。弱反転での電流式は、

tDStMGS

tMGS

tDS

tDStSBDB

VnVV

MDS

SBSBDS

nVV

MI

V

ItDS

DS

VVV

IIL

I

ILItIILtDS

eeIL

WI

VVIeQQ

eQL

WI

IeeQQ

Q

QQ

L

WQQ

L

WI

−−

−−−

−=

=

−−=

==

−−=−=

1

1

1

)/()('

')/()(''

0

'

0

/'

0

'

'

0

''

0

'

0

'

++=+++=

+=

'

'2

'

'

221 ,22 ,

22

2

SBF

SBFFFBMt

SBF

As

M

VnVVV

V

NqI

 

𝑄𝐼′ ≈ 𝑄𝑀

′ 𝑒(𝑉𝐺𝐶−𝑉𝑀)/(𝑛𝜙𝑡)

𝑄𝑀′ = −

2𝑞𝜀𝑠𝑁𝐴

2 2𝜙𝐹 + 𝑉𝐶𝐵′𝜙𝑡

⇒ QM’に関し、3端子MOS構造のp.21参照

𝑉𝐶𝐵′ → 𝑉𝑆𝐵

𝑉𝐺𝐶 → 𝑉𝐺𝑆

𝑄𝐼′ → 𝑄𝐼0

(G) Log ID vs. VGS特性

51

( )

t

DS

GS

n

Id

dVS

3.2

log

Swing Gate

=

=

  

Weak inversionequation

Charge sheet model

Strong inversion equation

log 𝐼𝐷𝑆

log 𝐼𝑗

𝑉𝐷𝑆: fixed𝑉𝑆𝐵:fixed

Weak Moderate Strong

𝑉𝐺𝑆𝑉𝑀 𝑉𝐻𝑉𝑇

𝐼𝐷𝑆 ∝ exp𝑉𝐺𝑆 − 𝑉𝑀𝑛𝜙𝑡

ln(𝐼𝐷𝑆) =log(𝐼𝐷𝑆)

log(𝑒)∝𝑉𝐺𝑆 − 𝑉𝑀𝑛𝜙𝑡

log(𝐼𝐷𝑆) ∝ log(𝑒)𝑉𝐺𝑆 − 𝑉𝑀𝑛𝜙𝑡

𝑑log(𝐼𝐷𝑆)

𝑑𝑉𝐺𝑆= log(𝑒)

1

𝑛𝜙𝑡

𝑑𝑉𝐺𝑆𝑑log(𝐼𝐷𝑆)

=𝑛𝜙𝑡

log 𝑒= 2.3𝑛𝜙𝑡

EKVモデル(対称モデルへの展開1)

52

( ) ( ) ( )( ) ( ) ( )( )

( )

( ) ( ) ( )

( ) ( )

( ) ( )

( ) ( )

デルになる。化された対称強反転モとなる。これは、簡単

  

から≫ 

 であるから、≫指数項強反転かつ非飽和領域とおいたものとなる。

をの別表現の式で 弱反転(対称モデル)が得られる。これは、

 

から≪  1 であるから、≪指数項弱反転領域

転と強反転に近づく。で使用。漸近的に弱反非飽和と飽和の全領域

 

如くである。のモデル式は、以下の

22'

222

2

2'

22222'

2

1,ln1ln

1

21

2

1,1ln

1ln1ln2

EKV

0

DBPSBPoxDS

yyy

VVVV

toxDS

VVVV

toxDS

VVVVn

CL

WI

eyee

nen

eenCL

WI

xxx

eenCL

WI

tF

tDBPtSBP

tDBPtSBP

−−−=

=+

−=

+

+−+=

−−

−−

⇒ p.30 参照

EKVモデル(対称モデルへの展開2)

53

( )

( )

( ) ( ) ( )( ) ( ) ( )( )

( ) ( )

( )( ) ( )

式になる。た対称強反転モデルのすなわち、簡単化され

 

であるため、≫は、指数項となる。強反転の下で

を代入すると、の式にる。また、は順方向飽和電流であとなる。

で飽和)  ( 

き、目の指数関数は無視でが大きくなると、2番の式で、

−−−−=

−−−−−=

+−+=

−=

=−==

−−−−

22

0

'

2

0

2

0

'

22222'

0

'

2''

2

2

1

1

1ln1ln2

EKV

2

EKV

00

SBDBSBDBTGBox

DBTGBSBTGBoxDS

nnVVVnnVVV

toxDS

TGBPDS

PDBSBPoxDSDS

DS

VVn

VVVVCL

W

nVVVnVVVn

CL

WI

eenCL

WI

nVVVI

VVVVn

CL

WII

V

tDBTGBtSBTGB

⇒ p.30 参照

EKVモデル(展開時の誤差)

54

( ) ( ) ( ) ( ) ( )

( ) ( )

( )

らない。への大きな誤差にはなの僅かな変化は大きいので、となり、括弧内の値は

 

域での電流式は、例えば、強反転飽和領

での誤差は少ない。があっても強反転領域したがって、この増大

で対応できる。め、ほんの少しの増大は指数関数内にあるた

ことができる。を正しい値に近づけるでを少し増大させることは、この置換えによる誤差

とおいたものとなる。を表現の式で 転(対称モデル)の別となる。これは、弱反

 

であるから、≪項弱反転領域では、指数

DST

SBTGBoxDS

T

DST

nnVVVnnVVV

toxDS

IV

nVVVn

CL

WI

V

IV

nen

eenCL

WI

tF

tDBTGBtSBTGB

0

2

0

'

0

0

2

2'

2

1

21

2

1

0

00

−−=

−=

−−−−

EKVモデル(ソース参照モデル1)

55

( ) ( ) ( )( ) ( ) ( )( ) ( )

( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( )

( )

( )

(固定)     

      

  

モデルに対応する。の弱反転のソース参照となる。これは、以下

 

であるから、≪、指数項できる。弱反転の場合チャネル効果等を考慮には、イオン注入、短この

    

 

になる。デルに変えると、以下モデルをソース参照モ

''

'

2'2

'

'

)/()('

2'2'

000000

22222'

22

221,1

22

2

1

122

1

,

1ln1ln2

EKV

SSS

SS

SBSBSBFFFBM

SBF

toxt

SBF

As

M

VnVV

MDS

VnVV

tox

nnVVVnVV

toxDS

T

FBTSBTT

nnVVVnVV

toxDS

VVVVV

VnnC

V

NqI

eeIL

WI

eenCL

WeenC

L

WI

V

VVVVV

eenCL

WI

tDStMGS

tDStTGtDSTGtTG

tDSTGtTG

=+++=

++=−=

+=

−=

−=−=

++=−++=

+−+=

−−

−−−−−

−−−

EKVモデル(ソース参照モデル2)

56

( ) ( ) ( ) ( )

( ) ( ) ( )

である。反転モデル(非飽和)化されたソース参照強となる。これは、簡単

 ここで 

であるから、≫モデル中の両指数項)、強反転の場合(非飽和

に変わる。はの場合更に精度は上がる。こに換えることにより、をにおいてまた、

る。に近づけることができで調整でき、正しいの違いを指数の中のとすなわち、

      

      

とである。に置き換わっているこが 

デルとの違いは、モデルとソース参照モ弱反転において、

−−=−−−−=

−−

++=

++=

+=+++=+++=

−−−

nVVVVCL

WnVVVVV

nC

L

WI

nn

IVVnn

Vn

Vn

VVVVVV

enen

DSDSTGoxDSTGTGoxDS

F

DSMT

SBSBF

FSBFBTSBFFFBM

nVVnVV tTGtMGS

,22

1

1EKV

2

21

21

221

2, ,22

21

EKV

2

S

'2

S

2

S

'

30

0

000

)/()( S

EKVモデル(ソース参照モデル3)

57

( ) ( )

( ) ( ) ( )( )

非常に有効である。

強反転の間)モデルにレーション(弱反転とモデルは、インターポ

いている。上式は近似計算には向

しており、イスは飽和領域で動作では、たいていのデバとなる。アナログ回路

は無視でき、モデル中の2番目の項が高いと反転とは無関係に

ある。反転モデル(飽和)で化されたソース参照強となる。これは、簡単

 ここで   

であるから、≪番目の指数項、≫項モデル中の最初の指数、強反転の場合(飽和)

EKV

1ln2

EKV

,2

1

2

1

12 1EKV

222'

2

S

'2

S

'

S tTG nVV

toxDS

DS

TGoxTGoxDS

enCL

WI

V

nVVCL

WVV

nC

L

WI

−+=

−=−=

ソース参照モデルの利点

•通常の印加電圧に対応している。

•閾値電圧が電流式中に自然に表れる。

•バックゲートを第2のゲートとして扱える。

• キャリア速度飽和をVDSによって簡単に扱える。

•非対称デバイスに対応できる。

• ソース参照モデルが高周波動作に対応している。

58

基板参照モデルの利点

•対称デバイスに対応できる。

(アナログ回路対応)

•電流の飽和点をVSBに関係なくVDBで直接表現できる。

(基板参照長チャネルモデル)

•弱反転領域をよく表現できる。

(ΨsaはVGBのみに依存)

•縦方向電界による移動度変化をよく扱える。

• IDSとその微分はVDS=0で連続に扱える。

(コンピュータシミュレーションに適合)

59

60

表面移動度と平均縦電界

1AA NN =

2AA NN =

21 AA NN

(log scale)

(lo

g sc

ale)

aveyE ,

■低電界領域でのEy,aveの μ への影響

不純物原子によるクーロン散乱酸化膜界面電荷

平均縦電界

表面移動度

⇒Ey,aveが高くなるにつれ増大する反転層電荷が、不純物原子や界面電荷をシールドするため、上記影響が弱まり、μ は Ey,aveの増大に伴い上昇する。⇒ Ey,aveが更に高くなるとフォノン(格子振動)散乱の影響が強くなり、上記上昇は止まる。

■高電界領域でのEy,aveの μ への影響

表面ラフネス(Surface Roughness)散乱

⇒Ey,aveが高くなるにつれμは低下

実効移動度(1)

61

( )

( ) ( )

( ) ( )

−+−=

−+−=

==

+−=

'

0

''

'

0

''

''

0

0

0

IILtsIeffDS

DS

eff

IILtsIDS

It

sIDS

DS

QQdQL

WI

I

QQdQL

WI

Lxx

dx

dQW

dx

dQWI

I

sL

s

sL

s

  

は以下になる。

えると、依存性あり)で置き換(実効移動度:縦電界をとなる。ここで、

  

、は積分の外にでるためまで積分すると、からを一定とし、となる。

  

は、流を併せたドリフト電流と拡散電

実効移動度(2)

62

( )

( ) ( )

=

−+−=

==

+−=

Leff

eff

IILtsI

L

DS

It

sIDS

DS

dxL

QQdQWdx

I

Lxx

dx

dQW

dx

dQWI

I

sL

s

0

'

0

''

0

''

11

1

0

0

  

、以下が得られる。を含む式を比較するとートで求めたとなる。この式と前シ

  

まで積分すると、からで割り、の両辺を

  

拡散電流を併せた一方、ドリフト電流と

実効移動度(3)

63

s

IBavey

avey

s

Byb

s

BIys

ybys

ybys

avey

avey

QQ

QQQ

''

,

,

'''

,

,

0

5.0

,

2

1

+−=

−=+

−=

+=

+=

  

は次式になる。である。この場合、

    

電界である。つまり、は反転層下での縦方向、は表面での縦方向電界である。

  

ここで、

  

の如く近似できる。は強反転の場合、以下実験データから、

21

111

Mathiessen

+=  

の法則

実効移動度(4)

64

( )( )

( )( )

( )

( ) ( )( )

+−−

+−

=

+−=

DB

SB

V

V

CBIBsSBDB

eff

effSBDBCB

DSCB

L

IBs

eff

eff

IBs

avey

dVQQaVV

LVVdxdV

VxV

dxQQaL

QQa

''

0

0

''

0

''

0

,

5.011

5.011

5.01

  

は次式になる。 となるため、

の場合成立)、ものとすると(低いに対し線形に変化するがである。ここで、

  

は、更に、

  

は以下の如くなる。の式に代入すると、、を

実効移動度(5)

65

( ) ( )( ) ( )

SBFBT

DSSBTGSDSSBFBGS

SBDB

SBDBSBDBFBGB

ox

s

eff

eff

VVV

VVVVVVVVf

f

VV

VVVVVVf

f

Cf

+++=

−−++−=

−−++−−=

+−+++−−−=

=

+=

00

000

23

0

23

00

'0

212

21

3

2

2

1

21

   但し、

 

は、の場合のース参照強反転モデル一方、簡単化されたソ

 

デルの場合、は、完全対称強反転モとなる。

 但し、    

は計算の結果、

実効移動度(6)

66

( )

( )( )

( ) を代入して計算する。

  

   

ル(直接導出)の式ソース参照強反転モデまたは、簡単化された

    

   

(直接導出)からの式完全対称強反転モデル

に代入する式として、との式の中の

SBCBSBFBSBGBoxI

SBCBSB

ox

B

CBCBFBGBoxI

CBoxB

IBeff

VVVVVVCQ

VVVC

Q

VVVVCQ

VCQ

QQ

−−+−−−−−=

−−++−

+−−−−−=

+−=

00

''

0'

'

00

''

0

''

''

1

実効移動度(7)

67

( )( )

した。に関する項を線形近似の中の (2) 

える。を一定とした式)を使      (

に関し、今までの式飽和電圧      

。に関する項を落としたの中の (1) 

は、となる。ここでの近似

は定数但し、     

更に近似すると、

を照強反転モデルからの簡単化されたソース参

SB

DS

DS

B

SBBTGS

eff

eff

Vf

V

Vf

VVV

'

0

1

+−+=

IDS vs. VGS特性

68

DSI

GSV

𝑉𝑆𝐵: fixed𝑉𝐷𝑆: very small

0TV

温度依存性

69

( )

( )

( )

)(2

1)(

35.0

)()(

0.22.1

)()(

'

04

4

3

3

TVVC

L

WTI

VVKmVk

TTkTVTV

V

kTT

T

TTT

TGSox

DS

FBT

rrTT

T

r

k

r

r

−=

=

−−=

=

=

  

次式となる。

状態)は照強反転モデル:飽和簡単化されたソース参これらから、電流式(

つ。により温度依存性を持とは、は定数である。~ここで、

  

で表される。の温度依存性は、以下

は定数である。~は室温、は絶対温度、ここで、

  

、以下で表される。移動度の温度依存性は

飽和領域でのIDS1/2 vs. VGS

70

GSV0

Increasing temperature

DSI

Log ID vs. VGS(低電流領域)

71

DIlog

GSV0

Increasing temperature

pチャネルMOSFET

72

+p+p

B

G

S D

n-sub

pチャネルMOSFET IDS-VDS 特性

73

DSV

DSI

V0=SBV V3−=SBV

2V−

V5−=GSV

V4−

V3−

0

DSI

DSV

V5−=GSV

V4−

V3−

Pチャネルトランジスタ電流式

74

( )

( ) ( )

は負の値である。とここで、

    

  

下の如くになる。ここで、閾値電圧は以

 

、以下の如くになる。強反転領域の電流式は

0

000

000

2'

2

SB

FBT

SBTSBT

DSDSTGSoxDSN

V

VV

VVVV

VVVVCL

WI

−−+=

−−−−−=

−−−=

75

付録擬フェルミ電位を用いたモデル(Pao-Sah)

擬フェルミレベルを用いたドレイン電流(1)Pao-Sahモデル:反転層内の電流

76

バルク

表面y x

x

y

y

+

I 反転層

擬フェルミレベルを用いたドレイン電流(2)

77

( ) ( )

( ) ( ) ( )( )

( ) ( )( )

( )

( ) ( ) ( )

( )( ) ( )

( )

( ) ( ) ( ) ( )

=

==

=

−=

=

+=

dx

xdV

x

yxyxn

x

yxn

xyxn

VLVVV

xV

enyxn

yxn

x

yxnqWdyyxdI

x

yxyxnqWdyyxdI

yxdIyxdIdI

t

DBSB

xVyx

tdiffdrift

diffdriftDS

t

,,,

,

,0

,

,

,,,

,,,

,,

,

0

  

得る。で微分すると、以下をを

   

差である。面との擬フェルミ電位は基板の深い領域と表

    

。は、以下の如くである電子密度

     

  

くである。れる電流は、以下の如反転層内微小領域を流

擬フェルミレベルを用いたドレイン電流(3)

78

( )

( ) ( ) ( )( ) ( )

( )

( ) ( )( )

( )( ) ( ) ( )

( )

−=

−==

==

=

−=

DB

SB

c

surface

V

V

IDS

I

y

y

DS

csurface

DS

DSdrift

diff

diff

dVQL

WI

dx

xdVQWdyyxnq

dx

xdVWI

yyyy

dx

xdVyxnqWdydI

dIyxdI

dx

xdV

x

yxyxnqWdyyxdI

yxdI

'

',

,

,

,,,

,

  

なる。って積分すると以下に次に、チャネル長に沿

   

得る。まで積分して、以下をから全電流は、

  

は以下となる。の式から、この式と

  

は次式になる。

に依存しない)は

電子密度を無視でき、

より下では、(

y

yc

擬フェルミレベルを用いたドレイン電流(4)

79

( )

( )

( )

( )

( )dVd

eqN

L

WI

IQ

eeeeNq

V

nn

de

eqNQ

Q

s

c

tFDB

SB

ttt

F

t

s

c

t

tF

VV

V

ADS

DSI

V

t

Vy

tt

y

t

s

As

Fc

i

c

yV

AI

I

=

−−+−+=

+=

=

−=

−−

−−

−−

−−

2

'

)(2)(

)(2'

'

)(2

)(

  

表される。は、下記の2重積分でからで与えられる。上記

  

は、である。また、

  

わちのところにとる。すな便宜的に、

電位である。ところの基板に対するは、電子が無視できるここで、

  

は以下になる。、に存在するとした場合電子と正孔が空乏層内