plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. hochfrequenzentladungen in (cf3)2hg...

9
Journalof Fluorine Chemistry, 19 (1982) 475-483 0 Elsevier Sequoia S.A., Lausanne - Printed in The Netherlands 47s PLASMACHEMISCHE UNTMSUCHUNGEN AN TRIFLUORMETHYL-VWBINDUNGEN. HOCHFREQUENZENTLADUNGEN IN (CF,),Hg UND (CF, ),Ge. REINT EUJEN Anorganische Chemie, FB 9, Universitat-Gesamthochschule, 5600 Wuppertal 1 (B.R.D.) SUIWIARY Radio frequency discharges through (CF,),Hg and (CF,),Ge have been investigated and compared with C,F,. While (CF,),Hg yields elemental mercury and product distributions similar to C2F.5 3 decomposition of (CF,),Ge produces GeF, and greater amounts of fluoro-olefins. The U.V. emission spectra of C,F, and (CF,),Ge have been shown to originate from difluorocar- bene, CF,. ZUSAMMENFASSUNG Die Keaktionen von (CF,),Hg und (CF,),Ge in Hochfrequenz- entladungen wurden in Relation zum C,F, untersucht. Wahrend (CF,),Hg Bhnliche Produktverteilungen wie C,F, ergibt, fiihrt die Entladung in (CF,),Gt? zur Bildung von GeF, und groperen Anteilen an Fluorolefinen. Die UV-Emissionen der Entladungen in C,F, und (CF,),Ge wurden als lB,-'lA, Ubergang des Difluor- carbens, CF,, identifiziert. EINFUHRUNG Trifluormethyl-Radikale haben bei der Synthese thermisch labiler Verbindungen des Typs (CF3)nM eine besondere Bedeutung erhalten [l, 21. Die Erzeugung der Radikale erfolgt im allge- meinen durch Hochfrequenzentladungen in C,F,, die auf Grund

Upload: reint-eujen

Post on 02-Jul-2016

214 views

Category:

Documents


0 download

TRANSCRIPT

Page 1: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

Journalof Fluorine Chemistry, 19 (1982) 475-483 0 Elsevier Sequoia S.A., Lausanne - Printed in The Netherlands

47s

PLASMACHEMISCHE UNTMSUCHUNGEN AN TRIFLUORMETHYL-VWBINDUNGEN.

HOCHFREQUENZENTLADUNGEN IN (CF,),Hg UND (CF, ),Ge.

REINT EUJEN

Anorganische Chemie, FB 9, Universitat-Gesamthochschule,

5600 Wuppertal 1 (B.R.D.)

SUIWIARY

Radio frequency discharges through (CF,),Hg and (CF,),Ge

have been investigated and compared with C,F,. While (CF,),Hg

yields elemental mercury and product distributions similar to

C2F.5 3 decomposition of (CF,),Ge produces GeF, and greater

amounts of fluoro-olefins. The U.V. emission spectra of C,F,

and (CF,),Ge have been shown to originate from difluorocar-

bene, CF,.

ZUSAMMENFASSUNG

Die Keaktionen von (CF,),Hg und (CF,),Ge in Hochfrequenz-

entladungen wurden in Relation zum C,F, untersucht. Wahrend

(CF,),Hg Bhnliche Produktverteilungen wie C,F, ergibt, fiihrt

die Entladung in (CF,),Gt? zur Bildung von GeF, und groperen

Anteilen an Fluorolefinen. Die UV-Emissionen der Entladungen

in C,F, und (CF,),Ge wurden als lB,-'lA, Ubergang des Difluor-

carbens, CF,, identifiziert.

EINFUHRUNG

Trifluormethyl-Radikale haben bei der Synthese thermisch

labiler Verbindungen des Typs (CF3)nM eine besondere Bedeutung

erhalten [l, 21. Die Erzeugung der Radikale erfolgt im allge-

meinen durch Hochfrequenzentladungen in C,F,, die auf Grund

Page 2: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

476

der vergleichsweise schwachen C-C-Bindung ohne C-F-Spaltung

ablguft. Eine wesentliche Voraussetzung fiir die Darstellung

relativ labiler Verbindungen besteht darin, eine thermische

Aufheizung des Systems zu vermeiden, wobei sich Hochfrequenz-

entladungen mit Ausgangsleistungen von ClOW als besonders

geeignet erwiesen haben. Als Testsystem ist insbesondere die

Umsetzung mit HgX, :3j oder elementarem Quecksilber [4, 5; zur

Anwendung gekommen, die jeweils in der Bildung von (CF,),Hg

resultiert. (CF,),Hg ist auf Grund seiner thermischen Stabi-

lit%t jedoch nicht als typisch anzusehen und ist zudem such

leicht auf anderem Wege zuganglich L6, 7;. Der geringe Gesamt-

umsatz deutet ferner darauf hin, dap in der Entladung die

Riickreaktionen von erheblicher Bedeutung sind, so dap sich

allgemein der Einsatz von Per(trifluormethyl)element-Verbin-

dungen zur Erzeugung von CF, -Radikalen bei geringen Einstrah-

lungsenergien anbietet. Im Umsatz mit Halogeniden kijnnte zu-

gleich das erzeugte Metallatom zum Abfang von Halogenen ge-

nutzt werden. Weiterhin kann davon ausgegangen werden, dap im

Vergleich zur Entladung in C,F, hdhere Radikalkonzentrationen

erzeugt werden konnen, was fiir eine spektroskopische Unter-

suchung und Bestimmung der Molekulparameter des CF,-Radikals

von Bedeutung ist.

Im folgenden wird Uber eine Untersuchung der plasmache-

mischen Zersetzung der Verbindungen (CF,),Hg und (CF,),Ge im

Vergleich zum C,F, berichtet.

EXPWIMENTELLES

Bis(trifluormethyl)quecksilber C6; wurde im MolmaBstab

durch Decarboxylierung von Hg(OCOCF,), in Gegenwart von K,CO,

bei 130-170" und 20 mbar mit Ausbeuten von 60% erhalten.

Die Reinigung erfolgte durch zweifache Sublimation. (CF,),Ge

wurde durch Umsetzung von (CF,),Hg mit GeI, im Verhaltnis

2.5 : 1 bei 125O dargestellt :73. Zur Auftrennung des Reak-

tionsgemisches wurde eine Drehbandkolonne verwendet.

Die Entladung erfolgte in einem Rohr aus Duranglas mit

20 mm Durchmesser bei Drticken von 0.1-0.3 Torr. Hochfrequenz-

energie (13.56 MHz) wurde mit einem 100 W-Kadiofrequenzgenera-

tor der Fa. Tegal, Calif., USA, erzeugt und induktiv einge-

Page 3: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

477

koppelt (Leistungsaufnahme ca. 5W). Fliichtige, bei -196°C

kondensierbare Produkte wurden ausgefroren und nach iiblicher

Vakuumtechnik gehandhabt und getrennt. CF, wurde infrarot-

spektroskopisch nachgewiesen, jedoch nicht quantitativ erfapt.

Die Analyse der iibrigen Produkte erfolgte mittels Gaschroma-

tographie (Varian 3700, 8mx6mm SE-30 Saule), IR-(PE 580),

Raman-(Cary 82 mit Kr+-Laser-Anregung) und Massenspektros-

kopie (Varian 3llA). Die quantitative Zusammensetzung der

Isomerengemische erfolgte mittels IgF-NMR-Spektroskopie

(Varian EM 390, 84.6'7 MHz). Die Emissionsspektren wurden mit

einem 0.4m-Monochromator(Spektrale Auflijsung 0.2nm) re-

gistriert. Urn Stiirungen des Monochromatorantriebs und des

Photomultipliers zu verhindern, erfolgte die Anregung mittels

Mikrowellen (Mikrotron 200 Mark 3).

ERGEBNISSE UND DISKUSSION

Auf Grund ihres unterschiedlichen Akzeptorverhaltens

gegeniiber Fluorid-Ionen unterscheiden sich Bis(trifluorme-

thyl)quecksilber, (CF,),Hg, und Tetrakis(trifluormethyl)ger-

manium, (CF,),Ge, in ihrem thermischen Verhalten erheblich.

Die Pyrolyse von (CF,),Hg in GlasgefaBen verlauft oberhalb

von 200° C unter quantitativer Abscheidung von elementarem

duecksilber. An den Wandungen erfolgt Zersetzung der CF,-

Radikale unter Bildung von SiF,, BF, und CF-Polymeren. Da-

gegen begiinstigt im Fall des (CFJ),Ge die hohe Ge-F-Bindungs-

energie bereits bei ca. 130° C die direkte Eliminierung von

CF,, das im allgemeinen quantitativ zu c-C,F, trimerisiert.

Fiir Entladungen sind daher such unterschiedliche Mechanismen

zu erwarten, wie durch die in Tabelle 1 wiedergegebene

Produktverteilung bestatigt wird. Im Rahmen der Reproduzier-

barkeit wurden fiir C,F, und (CF,),Hg sehr Bhnliche Mengen-

verhaltnisse von hoheren Fluorkohlenwasserstoffen gefunden,

so da@ ein analoger Mechanismus wahrscheinlich is-t. Die Zer-

setzung von (CF,),Hg erfolgt unter den gegebenen Voraus-

setzungen zu mehr als 99.5% :

(CF, )&g-& Hg" + 2 CF',. (1)

Page 4: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

478

TABELLE 1

Produktverteilung in Entladungen von CBFb, (CF,),Hg und

(Cl?, ),Ge

C2F6 (CF, 12 Hg (CF3 ), Ge

CZF6 100 100 100

C3 F, 8 9 33

C,Fl, a 2 2.4 12

C,F,, a ca.0.5 0.8 <4

CzF, 4 2.5 58

‘3 F6 15

CF,H 0.7 8 _-__________________---

SiF, 17

GeF, 143

CF,GeF, 30

(CF, )aGeF2. 5

aSumme aller Isomeren

Primarer Folgeprozep ist die Rekombination der CF,-Radikale,

die praktisch ohne Aktivierung ablauft [8;, und somit zur

gleichen Situation wie bei der Entladung in C,F, selbstfiihrt:

4 CZF6 \ CF, l + CF,. (2)

Ebenso wie bei der hochenergetischen Radiolyse von C,F, [9;

miissen jedoch such prinzipiell Ionisierungsprozesse in Er-

wagung gezogen werden, die jedoch bei der Synthese von CF,-

Derivaten auf Grund der Instabilitat der Kationen keine

Kolle spielen diirften.

Fiir die Entstehung hoherer Fluorkohlenwasserstoffe sowie

des C,F, bieten sich zwei Mechanismen an, Fluorabstraktion

mit Radikalrekombination und Carbeneinschiebungen. Die

schwach blaue Farbe der C,F,-Entladung deutet auf eine im

UV-Bereich liegende Emission hin. Das Emissionsspektrum

(Abb. 1) einer Mikrowellenentladung durch C,F, (15 W Ein-

gangsleistung) zeigt die v,'-Progression des 'B,-+'A,-Uber-

gangs des CF, und ist identisch mit Spektren von CF,X,-

Systemen [lo;.

Page 5: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

479

2LO 260 280 nm 300

'Abb. 1. UV-Emissionsspektrum einer Mikrowellenentladung in

C,F,

Die Entladungen in (CF,),Hg sind gekennzeichnet durch die

sehr starken Atomlinien des Quecksilbers, so dap CF, nicht

eindeutig identifiziert werden konnte.

CF, *++ -> CF, 0

+ Fo (3)

CF, l + F* j CF, (4)

Kekombination des CF, fiihrt zu C,F,. Im Gegensatz zur Pyrolyse

wird keine weitere CF,-Anlagerung zum c-C,F, beobachtet, so

da@ zu (5) alternative Prozesse in Betrachtung gezogen werden

miissen:

2 CF, -9 C,F, (5)

. CF,a C,F,*

CF, -

-CF, ' C, F‘,

C,F,-Derivate konnten im System CPF6/S8

(6)

isoliert werden : 11;.

Auch der relativ grope Anteil an C,F, deutet auf signifikante

C,F5 l -Konzentrationen hin, die alternativ durch Fluoriibertra-

gung gebildet werden kdnnen:

CF, l + C,F, +CF 4 + CzF5 - (7)

Page 6: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

480

Allgemein fiihrt dieser Mechanismus zum Aufbau hijherer gesat-

tigter Fluorkohlenwasserstoffe

CF, * + 'nF2n+2wCF4 + 'nFn+:*

CF, - + 'nF2n+l' jCn+lF2(n+l)+2

(8)

Tabelle 2 gibt die NMR-spektroskopisch ermittelten relativen

Zusammensetzungen der C,- und C,-Fraktionen der C,F,- bzw.

(CF,),Hg-Entladungen wieder. Auffallend ist der hohe Anteil

an (CF, )*C, der vorwiegend darauf zuriickzufiihren ist, dag

eine sekundare Zersetzung im Plasma ausschlieBlich (CF,),C.-

Radikale hervorruft. Die wahrscheinlichste Abreaktion ist

jedoch wiederum Kekombination mit CF, .-Radikalen, so dag die

effektive Lebensdauer erheblich groper ist als die von i-C,F,,

und n-C,F,, mit unterschiedlichen Moglichkeiten der C-C-Frag-

mentierung. Generell ergeben C,F, -Entladungen vorwiegend n-

Isomere, im Falle des Verhaltnisses n-C,F,,/i-C,F,, sogar eine

Verdopplung des statistischen Verhaltnisses. Im Einklang mit

den Ergebnissen der (CF,),Hg-Entladung lassen die Fluoriiber-

tragungsreaktionen (8) eine Anreicherung sekundarer und ter-

tiarer Radikale und somit Kettenverzweigung erwarten. Der

hohe n-Isomerengehalt der C,F, -Entladung weist auf hohe, nach

(7) gebildete C,F, a-Konzentrationen hin, die bei Rekombina-

tionen (9) mit CF, l -Radikalen konkurrieren und zur Kettenver-

langerung fiihren.

Wird die Entladung in Gegenwart von fliichtigen Halogeni-

den wie z.B. SnBr, durchgefiihrt, erhal& man zusatzlich neben

Spuren von CF,Sn-Verbindungen :3], Fluorbromkohlenwasserstoffe

SnBr, v SnBr,. + Br. (10)

CnF2n+,* + Bre --+ CnF2n+iBr (11) *

'nF2n+lBr

.CF, ,Br.

-CF, ' 'nF2nBr2 ---jetc (12)

Das Isomerenverhaltnis n-C,F,Br (58%)/i-C, F,Br (42%), aus-

gehend von (CF,),Hg, entspricht dem Verhaltnis n-C,F,,: i-C,F,,o

Bei den C, -Fluorkohlenwasserstoffen werden neben C,F,Br such

BrCF,-CF,Br, CF,CFBr,, CF,Br-CFBr, und CF,Cbr, gefunden.

Page 7: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

TABELLE 2

Relative HBufigkeit der Isomeren der C,- und C, -Fraktionen und ihre NMR-Parameter

C,F

, (C

F, )

zHg

6 Cppmia

J(FF)tSlb

(CF

, -C

F,

1,

70

52

82.1', 126.6'

12+13 :9.6

(CF, ),cF

30

48

75.0, 188.0

6.1

____________________~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~

(cF,-CF, )acF,

58

32

81.9', 125.8', 122.9

13 :10.3, 23 :3.6

(CF,),CFCF,CF,

24

36

73.3, 186.0, 118.6, 81.6 12~14 :5.7, 13 :11.3,

23 : 2.5, 24 :12.5, 34:<0.8

(CF

, ),C

18

32

65.3

-_-

aGegen internes CFCl

b

3, positives Vorzeichen entspricht hBherem Feld.

Die Nummerierung

folgt der Formelschreibweise. 'Signal hijherer Ordnung

Page 8: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

482

Die Entladung in (CF,),Ge fiihrt ebenfalls zu nahezu

quantitativer Zersetzung. Das Emissionsspektrum unterhalb

300 nm zeigt den lB,*lA,-Ubergang des CF,, iiberlagert von

den Atomlinien des Germaniums (121. Auf Grund des hohen C,F,-

Anteils kann davon ausgegangen werden, dap primar die Spal-

tung der schwachen Ge-C-Bindung [13,1&i erfolgt. Die Folge-

prozesse (Schema 1) sind insbesondere durch Fluorabstraktion

durch Germanium gekennzeichnet.

R,Ge - CF, -& CFj + R,Ge*

\

'n'2n+2

2CF; -CF,

R,Ge* C,F; -K,Gey ) CF,-CF=CF,

Schema 1

Der Einsatz von (CF,),GeI fiihrt im wesentlichen zur gleichen

Produktverteilung, wobei zusatzlich CF31~, COFJI, n-C,F,I,

i-C,F,I sowie Spuren von CF,CFI, erhalten wurden.

DANKSAGUNG

Mein Dank gilt dem Ministerium fiir Wissenschaft und

Forschung des Landes Nordrhein-Westfalen fiir die Bereit-

stellung von Sachmitteln.

LITERATUR

1 R.J. Lagow und J.A. Morrison, Adv. Inorg. Rad. Chem., 23 - (1980) 177.

2 L.J. Turbini, R.E. Aikman und R.J. Lagow, J. Amer. Chem.

sot., 101 (1979) 5833.

Page 9: Plasmachemische untersuchungen an trifluormethyl-verbindungen. Hochfrequenzentladungen in (CF3)2Hg und (CF3)4Ge

483

3 R.J. Lagow, L.L. Gerchman, K.A. Jacob und J.A. Morrison,

J. Amer. Chem. Sot., 97 (1975) 518. - 4 R. Eujen und R.J. Lagow, Inorg. Chem., 14 (1975) 3128. - 5 M. Schmeisser, R. Walter und D. Naumann, Z. Anorg. Allg.

Chem., 464 (1980) 233.

6 L.L. Knunyants, Y.F. Komissarov, B.L. Dyatkin und L.T.

Lantseva, Izv. Akad. Nauk. SSR, Ser. Khim., 4 (1973) 943.

7 R.J. Lagow, R. Eujen, L.L. Gerchman und J.A. Morrison,

J. Amer. Chem. Sot., 100 (1978) 1722.

8 A.P. Stefani, in Fluor. Chem. Rev., Vol. 5, (ed.P.Tarrent),

Dekker, New York, (1971) p.115.

9 M.D. Scanlon und R.J. Hanrahan, J. Fluor. Chem. 16 (1980) - 199.

10 Quach-Tat-Trung, G. Durocher, P. Sauvageau und C. Sandorfy,

Chem. Phys. Lett., 5 (1977) 404.

11 T. Yasumura und R.J. Lagow, Inorg. Chem., 17 (1978) 3108. - 12 A.N. Zaichl, V.K. Prokofev, S.M. Raiskii, V.A. Slavnyi und

E.Ya. Shreider, Tables of Spectral Lines, IFI/Plenum,

New York, (1970).

13 R. Eujen und H. Burger, Spectrochim, Acta, Part A, 35 - (1979) 541.

14 H. Oberhammer und R. Eujen, J. Mol. Struct., 51 (1980) 211.