cmos technológia a nanométeres tartományban

CMOS technológia a nanométeres tartományban

Dr. Mizsei János

Somlay Gergely

Technológiák az Intel-nél

Minden második évben új technológiát vezettek be 1989 óta

Gate oxid méretcsökkenése

50 nm

A technikai fejlődés

• Minden új technológia jellemzője:~ 0,7x minimális csíkszélesség

~ 2,0x tranzisztor sűrűség

~ 1,5x tranzisztor kapcsolási sebesség

Csökkent chip teljesítmény

Csökkent chip költség

90 nm-es process jellemzői

• Nagy sebesség, alacsony fogyasztású tranzisztorok– 1,2 nm gate oxid– 50 nm gate hossz– Feszített szilícium technológia

• Gyorsabb, sűrűbb összeköttetések– 7 réz réteg– Új low-k dielektrikum

• Alacsony chip költség– 1,0 μm2-es SRAM memória cella méret– 300 mm-es szelet

90 nm-es tranzisztor

90 nm technológia gate oxidja

1,2 nm SiO2

A gate oxid kevesebb, mint 5 atomi réteg vastag

A tranzisztor áramának növelése

• Fully-silicated (FUSI, teljesen, a gate aljáig átszilicidált) és fém gate („dual gate”)

• Gate oxid vastagságának csökkentése– 2 nm alatt nagy szivárgás a SiO2 –ben

– nagy „ϵ” (high k) anyagok (hafnium és cirkónium oxid)

• Mozgékonyság növelése a csatornában– Feszített szilícium struktúrák

Feszített szilícium tranzisztor

Feszített szilícium technológia

Strain-relaxed buffer (SRB) technológia:• Si hordozóra SiGe réteg növesztése• A Ge atomok több helyet foglalnak• ~10 nm-es Si réteg növesztése

– igazodik a SiGe rácsához

• A felső Si réteg feszített, így nagyobb a mozgékonyság

• Kísérleti eredmények 20%-os növekedést mutatnak

Feszített szilícium tranzisztor

Feszített struktúra előnyei– A feszített rács növeli az elektron és lyuk

mozgékonyságot– A nagyobb mozgékonyság 10-20%-on növekedést

eredményez a tranzisztor meghajtó áramában– Mind az NMOS, mind a PMOS tranzisztort javítja

Feszített szilícium eljárás– Az Intel egyedi gyártástechnológiája– Nem hátrányos a csatornarövidülés hatásra vagy a

szivárgásra– A hozzáadott folyamat lépések a teljes folyamat

költségét ~2%-kal növelik

A feszített struktúra hátrányai

• A Ge termikus ellenállása nagyobb, mint a Si-é– SOI-hez hasonló melegedési problémák

• A víz oldja a germánium-oxidot

• Az SRB technológia diszlokációkat okoz, melyek a feszített rétegbe vándorolva befolyásolja a csatorna szivárgást és a kihozatalt

További feszített struktúrák

• Si1-xGex epitaxiális réteg növesztése a source és drain tartományokba (embedded SiGe - eSiGe) – recessed s/d– Ge atomok nagyobbak melyek nyomó

feszültséget okoznak a csatornában – nő a lyuk mozgékonyság a pMOS-okban

Hibrid hordozó• A hordozó-beli mozgékonyság függ a

kristály orientációjától– (110) hordozón a <110> irányban ~2x a lyukak

mozgékonysága, mint a (100) hordozón– (110) hordozón kialakított pMOS-nál ~45%

áramnövekedés érhető el

(„shallow trench isolation”)

Technológia:

(100) (110)

(100) (110)

Potenciális technológiák (összefoglalás)

90 nm-es technológia összeköttetései

• 7 rétegű réz összeköttetések– 1 réteggel több, mint a 0,13 μm-es technológiánál– Az extra rétegek költséghatékony fejlődést nyújtanak

a logikai sűrűségben

• Új low-k dielektrikum bevezetése a vezeték-vezeték kapacitást csökkenti– Szén adalékolt oxid (CDO) dielektrikum 18%-kal

lecsökkenti a kapacitást a 0,13 μm-es technológiánál alkalmazott SiOF dielektrikumhoz képest

– A csökkent kapacitás növeli a chipen belüli kommunikáció sebességét és csökkenti a fogyasztást

90 nm-es technológia összeköttetései

Planár CMOS tranzisztorok méretcsökkentése

Új anyagok megnövelik a 90 nm-es technológia teljesítményét

High-k gate dielektrikumok

A high-k dielektrikum nagyobb kapacitást és kisebb szivárgást biztosít

Dual Work Function Metal Gate CMOS

(a) CMOS struktúra a második metal réteg marása után

(b) CMOS struktúra a hőkezelés után: a P oldalon a fém rétegek interdiffúziója során a második fém a dielektrikum felületére szegregálódik

Ti/Ni gate kilépési munkája

Kísérleti Tri-gate tranzisztorok

• TeraHertz tranzisztorok fejlesztett változata– Nagyobb teljesítmény– Kisebb méretekhez is skálázható (alacsony

szivárgás)

Tri-gate tranzisztor

Nano-eszköz struktrúrák fejlődése

Tri-gate architektúra: minta a jövőre

Másik nano koncepció: III-V félvezető tranzisztorok

• Multi-epitaxiális réteg struktúra vegyület félvezetőknél

Félvezető lehetőségek és korlátok

• A jövőbeni FET struktúrák mérete 11 nm-re fog lecsökkenni 2012-2015-re

• A chipen belüli összeköttetések fordítva skálázódnak – nagyobb méretek szükségesek a nagyobb sűrűség és órasebesség miatt

• A fő korlátot a teljesítmény disszipáció (1E-21J átkapcsoló kapunként) és szivárgó áram (in-state és out-state esetben is) okozza

• A jelenlegi technológiák teljesítménye nem fog jelentősen növekedni

• Az igazi teljesítménynövekedést új technológiák beintegrálása a CMOS technológiába hozhat

Jelenlegi nanoeszközök képességei és korlátai• Az új eszközök új lehetőségeket nyújtanak:

– Nagyobb sűrűség – elvileg 1e12 cm-2

– Új sávtervezett struktúrák, mint a Si nanovezeték nanolézer és a Si alapú félvezető heterostruktúrák a megnövelt mozgékonyságért és alacsonyabb teljesítményért

– Megnövelt hordozó mozgékonyság a lecsökkentett szóródás és kvantum confinement miatt

• De a nanoméretű eszközöknek korlátai is vannak:– Nagyobb tulajdonság ingadozás az intrinsic processzek

ingadozásai miatt– Nagyobb hibaszázalékok az alacsonyabb szennyeződés

követelmények és heterointegráció miatt– Ismeretlen megbízhatósági hibamodellek– Nem alkalmas monolitikai gyártásra – Alacsony technológiai integráció a CMOS-szal– A méretcsökkentés nem céloz meg fontos analóg eszköz és

áramkör igényeket