cmos technológia a nanométeres tartományban
DESCRIPTION
CMOS technológia a nanométeres tartományban. Dr. Mizsei János Somlay Gergely. Technológiák az Intel-nél. Minden második évben új technológiát vezettek be 1989 óta. Gate oxid méretcsökkenése. 50 nm. A technikai fejlődés. Minden új technológia jellemzője: ~ 0,7x minimális csíkszélesség - PowerPoint PPT PresentationTRANSCRIPT
CMOS technológia a nanométeres tartományban
Dr. Mizsei János
Somlay Gergely
Technológiák az Intel-nél
Minden második évben új technológiát vezettek be 1989 óta
Gate oxid méretcsökkenése
50 nm
A technikai fejlődés
• Minden új technológia jellemzője:~ 0,7x minimális csíkszélesség
~ 2,0x tranzisztor sűrűség
~ 1,5x tranzisztor kapcsolási sebesség
Csökkent chip teljesítmény
Csökkent chip költség
90 nm-es process jellemzői
• Nagy sebesség, alacsony fogyasztású tranzisztorok– 1,2 nm gate oxid– 50 nm gate hossz– Feszített szilícium technológia
• Gyorsabb, sűrűbb összeköttetések– 7 réz réteg– Új low-k dielektrikum
• Alacsony chip költség– 1,0 μm2-es SRAM memória cella méret– 300 mm-es szelet
90 nm-es tranzisztor
90 nm technológia gate oxidja
1,2 nm SiO2
A gate oxid kevesebb, mint 5 atomi réteg vastag
A tranzisztor áramának növelése
• Fully-silicated (FUSI, teljesen, a gate aljáig átszilicidált) és fém gate („dual gate”)
• Gate oxid vastagságának csökkentése– 2 nm alatt nagy szivárgás a SiO2 –ben
– nagy „ϵ” (high k) anyagok (hafnium és cirkónium oxid)
• Mozgékonyság növelése a csatornában– Feszített szilícium struktúrák
Feszített szilícium tranzisztor
Feszített szilícium technológia
Strain-relaxed buffer (SRB) technológia:• Si hordozóra SiGe réteg növesztése• A Ge atomok több helyet foglalnak• ~10 nm-es Si réteg növesztése
– igazodik a SiGe rácsához
• A felső Si réteg feszített, így nagyobb a mozgékonyság
• Kísérleti eredmények 20%-os növekedést mutatnak
Feszített szilícium tranzisztor
Feszített struktúra előnyei– A feszített rács növeli az elektron és lyuk
mozgékonyságot– A nagyobb mozgékonyság 10-20%-on növekedést
eredményez a tranzisztor meghajtó áramában– Mind az NMOS, mind a PMOS tranzisztort javítja
Feszített szilícium eljárás– Az Intel egyedi gyártástechnológiája– Nem hátrányos a csatornarövidülés hatásra vagy a
szivárgásra– A hozzáadott folyamat lépések a teljes folyamat
költségét ~2%-kal növelik
A feszített struktúra hátrányai
• A Ge termikus ellenállása nagyobb, mint a Si-é– SOI-hez hasonló melegedési problémák
• A víz oldja a germánium-oxidot
• Az SRB technológia diszlokációkat okoz, melyek a feszített rétegbe vándorolva befolyásolja a csatorna szivárgást és a kihozatalt
További feszített struktúrák
• Si1-xGex epitaxiális réteg növesztése a source és drain tartományokba (embedded SiGe - eSiGe) – recessed s/d– Ge atomok nagyobbak melyek nyomó
feszültséget okoznak a csatornában – nő a lyuk mozgékonyság a pMOS-okban
Hibrid hordozó• A hordozó-beli mozgékonyság függ a
kristály orientációjától– (110) hordozón a <110> irányban ~2x a lyukak
mozgékonysága, mint a (100) hordozón– (110) hordozón kialakított pMOS-nál ~45%
áramnövekedés érhető el
(„shallow trench isolation”)
Technológia:
(100) (110)
(100) (110)
Potenciális technológiák (összefoglalás)
90 nm-es technológia összeköttetései
• 7 rétegű réz összeköttetések– 1 réteggel több, mint a 0,13 μm-es technológiánál– Az extra rétegek költséghatékony fejlődést nyújtanak
a logikai sűrűségben
• Új low-k dielektrikum bevezetése a vezeték-vezeték kapacitást csökkenti– Szén adalékolt oxid (CDO) dielektrikum 18%-kal
lecsökkenti a kapacitást a 0,13 μm-es technológiánál alkalmazott SiOF dielektrikumhoz képest
– A csökkent kapacitás növeli a chipen belüli kommunikáció sebességét és csökkenti a fogyasztást
90 nm-es technológia összeköttetései
Planár CMOS tranzisztorok méretcsökkentése
Új anyagok megnövelik a 90 nm-es technológia teljesítményét
High-k gate dielektrikumok
A high-k dielektrikum nagyobb kapacitást és kisebb szivárgást biztosít
Dual Work Function Metal Gate CMOS
(a) CMOS struktúra a második metal réteg marása után
(b) CMOS struktúra a hőkezelés után: a P oldalon a fém rétegek interdiffúziója során a második fém a dielektrikum felületére szegregálódik
Ti/Ni gate kilépési munkája
Kísérleti Tri-gate tranzisztorok
• TeraHertz tranzisztorok fejlesztett változata– Nagyobb teljesítmény– Kisebb méretekhez is skálázható (alacsony
szivárgás)
Tri-gate tranzisztor
Nano-eszköz struktrúrák fejlődése
Tri-gate architektúra: minta a jövőre
Másik nano koncepció: III-V félvezető tranzisztorok
• Multi-epitaxiális réteg struktúra vegyület félvezetőknél
Félvezető lehetőségek és korlátok
• A jövőbeni FET struktúrák mérete 11 nm-re fog lecsökkenni 2012-2015-re
• A chipen belüli összeköttetések fordítva skálázódnak – nagyobb méretek szükségesek a nagyobb sűrűség és órasebesség miatt
• A fő korlátot a teljesítmény disszipáció (1E-21J átkapcsoló kapunként) és szivárgó áram (in-state és out-state esetben is) okozza
• A jelenlegi technológiák teljesítménye nem fog jelentősen növekedni
• Az igazi teljesítménynövekedést új technológiák beintegrálása a CMOS technológiába hozhat
Jelenlegi nanoeszközök képességei és korlátai• Az új eszközök új lehetőségeket nyújtanak:
– Nagyobb sűrűség – elvileg 1e12 cm-2
– Új sávtervezett struktúrák, mint a Si nanovezeték nanolézer és a Si alapú félvezető heterostruktúrák a megnövelt mozgékonyságért és alacsonyabb teljesítményért
– Megnövelt hordozó mozgékonyság a lecsökkentett szóródás és kvantum confinement miatt
• De a nanoméretű eszközöknek korlátai is vannak:– Nagyobb tulajdonság ingadozás az intrinsic processzek
ingadozásai miatt– Nagyobb hibaszázalékok az alacsonyabb szennyeződés
követelmények és heterointegráció miatt– Ismeretlen megbízhatósági hibamodellek– Nem alkalmas monolitikai gyártásra – Alacsony technológiai integráció a CMOS-szal– A méretcsökkentés nem céloz meg fontos analóg eszköz és
áramkör igényeket