a szilárdtestfelületek szerkezetének felderítésére alkalmas legfontosabb
DESCRIPTION
A szilárdtestfelületek szerkezetének felderítésére alkalmas legfontosabb módszerek (FEM-FIM, LEED, RHEED, SPM-STM-AFM). történeti áttekintés a módszerek fejlesztési iránya atomi poziciók deketálása. A felület részaránya igen kis tömbi hányadot képez, ha a felületi atomi réteget - PowerPoint PPT PresentationTRANSCRIPT
A szilárdtestfelületek szerkezetének felderítésére alkalmas legfontosabbmódszerek (FEM-FIM, LEED, RHEED, SPM-STM-AFM)
történeti áttekintés
a módszerek fejlesztési iránya
atomi poziciók deketálása
A felület részaránya igen kis tömbi hányadot képez, ha a felületi atomi réteget a tömbben diszpergáljuk, vagyis a felületi érzékenység igen nagy érzékenységet jelent.
Az elektronok inelasztikus szabadúthossza jellemzően változik az energiával, de szilárdtestekben meglehetősen kicsi a 10-1000 eV tartományban, összemérhető a szokásos rácsállandókkal: 10 Angstroms ( 1 nm ) 15 < E/eV < 350 20 Angstroms ( 2 nm ) 10 < E/eV < 1400 , s ez eredményezi a nagy felületérzékenységet.
FEM-FIMField Emission Microscopy (FEM)Field Ion Microscopy (FIM) ( téremissziós mikroszkópia, térionizációs mikroszkópia)
A téremissziós mikroszkópot 1936-ban Dr. Erwin Mueller alkotta meg, aki később 1951-ben készülékét továbbfejlesztve feltalálta a térionizációs mikroszkópot is. A maga korában (sőt egészen az STM 1982-ben történő felfedezéséig) a téremissziós mikroszkóp volt az egyetlen kísérleti módszer, amellyel szilárdtestfelületek atomjai megjeleníthetők voltak. Még napjainkban is fontos módszer, különösen, ha „repülési idő” tömegspektrometriával van összekapcsolva, s így atomszondás elemanalízisre ad lehetőséget.
FEM-FIMField Emission Microscopy (FEM)Field Ion Microscopy (FIM) ( téremissziós mikroszkópia, térionizációs mikroszkópia)
A nagyon kis görbületi sugarú (~ 20 nm) csúcs egy krisztallit formát képez, ahol a kristálytani síkok és a felület metszése élatomokat eredményez. Ezeknek a környezetüknél nagyobb az emisszióképességük, ezért a FEM (ill. a FIM) képeken fényes pontokként jelentkeznek a képernyőn, ha a minta és a hemiszférikus képernyő közé 10 - 20 kV nagyságrendű feszültséget kapcsolunk.
modell FIM kép
FEM-FIMA téremissziós (térionizációs) mikroszkóp felépítése
NagyításN = a minta – csúcs távolság / csúcs görbületi sugár
10 cm / 10 nm ~ 107
hűthető mintatartónagy feszültség
betekintő ablak
minta
leképező gáz (He)
elektron ágyú
fékező rácsok
minta
kollektor felület
kísérleti elrendezés
Low Energy Electron Diffraction (LEED) ( kis energiájú elektrondiffrakció)
LEED analizátor
Tipikus energia tartomány: 20-200 eV, amely esetében a kb. 0.3 nm rácsállandójú síkrácsok 10-15 cm távolságban jól elkülönülő (10-15 mm) diffrakciós pontok jelennek meg.
LEED
Az elektron hullámhossza, = h / p ( ahol p az elektron impulzusa)vagyis
p = m v = (2 m Ek )1/2 = (2meV)1/2 , ahol
m – az elektron tömeg [ kg ] v - sebesség [ m s-1 ] Ek – kinetikus energia
e – elektromos töltésV – gyorsító feszültség (eV)
= h / ( 2 m e V )1/2
az erősítés vagyis a diffrakció Bragg-feltétele
a x sin = n x
valódi rács – reciprok rács távolság hullámszám vektor
(energia jellegű)
LEED
1 1 a a
LEEDvalódi rács fcc(110) felület diffrakciós (LEED) kép
Első közelítésben a felületi elemi cella elhelyezkedés szimmetria viszonyait kapjuk meg (kinetikus LEED elmélet). Az elemi cella belső atomi felépítésére primér elektron energia-függés mérésekre van szükség, amelynek kiértékelésében az nyugalmi atomi poziciók körüli termikus rezgéseket is figyelembe kell venni (dinamikus LEED elmélet).
RHEED
88 fokos beesési szög esetén
Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED) ( reflexiós nagy energiájú elektrondiffrakció)
A diffrakciós kép ebben az esetben meghatározott távolságban megjelenő csíkok rendszere, amelyeknek a távolsága a rácssíkok távolságával hozható kapcsolatba.
Főleg vékonyrétegek (fémfilmek) növesztésének ellenőrzésére használják.
RHEED
Az úgynevezett szendvics-rétegek ill. szuperrácsok kialakításában alapvető fontosságú technika.
az STM felfedezéséért kapott Nobel-díj megünneplése 1986 IBM-Laboratórium, Zürich
Gerd Binnig, Heinrich Rohrer
1986
Si (111)-(7x7)
az első kísérleti megvalósítás
SPM
SPMScanning Probe Microscopies (SPM)Scanning Tunneling Microscopy STM (Pásztázó Alagútmikroszkópia)Atomic Force Microscopy AFM (Atomi erő mikroszkópia) (SFM ??)Scanning Magnetic Microscopy SMM (Pásztázó Mágneses Mikroszkópia)
leképező tű (szenzor)
vizsgálati tárgy
a leképezési tartomány atomi léptékű tartományon
leképezés a valódi rácstérben
A leképező tű mozagatása 0.01 nm laterális pontossággal piezoelektromos pozicionálók segítségével
nem csak mikroszkóp, de nanomanipulátor is
SPM az alagutazás elektronszerkezeti értelmezése
a Fermi-szint körülibetöltött és betöltetlen állapotok fontossága
ze-z ahol 2mU-E)]1/2 /h
SPM
Az STM-tű, a minta, az STM feszültség-generátora és az alagútáram erősítő zárt áramkört alkot. Az állandó aramú üzemmódban a Z-piezo ún. negatív visszacsatolással biztosítja az alagút áram szabályzását, miközben a szükséges Z-távolság értékét egy leolvasó áramkör elküldi a komputerbe, ahol egy megfelelő program képi információvá rakja össze a kapott értékeket.
SPM
betöltött elektron állap.
betöltetlen elektron állap.
leképező tű
leképező tű
potenciál gát véges magasságvéges szélesség
a leképező feszültség 0.01-5.00 V nagyságrendűa leképező áram 0.05-5.00 nA nagyságrendű
sávszerkezeti kép
A minta-tű távolsággal exponenciálisan csökkenő alagútáram !
a nagy laterális felbontás értelmezése
ze-z ahol 2mU-E)]1/2 /h
tartózkodási valószínűség : P e-2z
ily módon az alagútáram speciális esetben : I ne-2z
EF
En = EF-eV
amennyiben a lokális állapot sűrűség definícióját felhasználjuk s(z, E) =n
E
En=E-
azt kapjuk, hogy az alagútáram I V * s(z, EF)
SPM
SPM
Si(111)-(7x7)Az STM első nagy sikerét egy régóta megoldatlan felületi rekonstrukció, a Si(111) felület 7x7-es rekonstrukciójának megfejtése jelentette
A képi megjelenítést nagyban elősegítette a mikroszámítógépek fejlődése az 1980-as évek közepétől. Ma már 0.01 sec / kép (512 x 512 képpont) sebességgel video-szerűen rögzíthetők felületi folyamatok (Video-STM).
Az STM fejlesztésének a Video-STM és az STM-manipulátor mellett, a spektroszkópiai üzemmód kihasználása. A lokálisan felvett I-V spektrumok a felületi állapotsűrűségről adnak információt.
SPMAz STM, mint nanomanipulátor
A leképező tű megfelelő alagútáram és feszültség esetén képes arra, hogy a felületen kötött atomot vagy molekulát felvegye vagy lerakja, ily módon atomokból szabályos elrendeződések rakhatók ki (csak türelem kérdése).
Carbon Monoxide Man Carbon Monoxide on Platinum (111)
The Beginning Xenon on Nickel (110)
STM üzemmódok STM funkciók
konstans áramú leképezés
It = const., Z-piezo visszacsatolás
képi információ: Z-piezo feszültség
állandó távolságú leképezés
Z-piezo konstans, nincs visszacsatolás
képi információ: It alagútáram
I / U spektrumok felvétele
X, Y, Z-piezo konstans
mikroszkóp
nanomanipulátor
spektrométer
SPM
a gyakorlati munka szempontjából fontos faktorok
1. elektronika, számítástechnika,
2. zajcsökkentés, mechanikai stabilitás
3. reprodukálható tű készítés
4. képfeldolgozás, megjelenítés
5. kiegészítő módszerek alkalmazása
SPM