Радиационная стойкость ДУО сталей
TRANSCRIPT
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Радиационная стойкость ДУО сталей, облученных высокоэнергетическими
ионами ксенона
В.В. Углов,Зав. кафедрой физики твердого тела,
доктор физ.-мат. наук, профессор
Белорусский государственный университет, Минск, Беларусь
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Поколения ядерных реакторов
1-е поколение1950-1960
2-е поколение1970-1990
3-е поколение1990-2010
3-е+ поколение2010-2020
T < 350 °C, Эффективность ~ 30%
Поколение IV:•Высокая безопасность и надежность •Высокая рентабельность
Более высокие рабочие температуры: T ~ 700-900 °C, Эффективность ~ 44%
2
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Функциональные материалы для поколения-IV
Условия эксплуатации:
• Высокая температура;•Высокие дозы нейтронов;•Коррозионная среда.
Желательные характеристики:•Стабильность против термической и радиационнойползучести;•Механические свойства: прочность, усталость и т.д.•Устойчивость к повреждающим дозам 10-150 сна;•Химическая совместимость охлаждающей жидкостии топлива.
3
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
M. Inoue, JAEA, MATGENIV, 2007
Радиационная стойкость при высоких температурах
ДУО (ODS) стали являются перспективными для материалов оболочек ядерныхэнергетических систем поколения IV (высокая устойчивость к облучениюнейтронами и хорошие механические свойства при повышенныхтемпературах).
4
Дисперстно-упрочненные оксидами (ДУО) стали
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Дисперстно-упрочненные оксидами (ДУО) стали
Аустенитные стали, мартенситно-ферритные стали•Радиационное распухание;•Радиационная ползучесть;•Высокая температура радиационного охрупчивания
Доза < 83 сна, T<700 °C
ДУО ферритные стали -наноразмерные частицыоксида (точечные дефекты)•ловушки для радиационно-индуцированных точечныхдефектов;•препятствие движениюдислокаций.
устойчивость к распуханию
высокая стойкость температурной ползучести
Ожидается: доза ~ 200 сна, T ~ 900 °CТребуются дополнительные исследования
5
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
ЭП450 ДУО сталь
Когерентные с-Y2Ti2O7 оксиды в матрице -Fe.
Размер нанооксидов d = 5-200 нм, <d> = 10 нм, концентрация оксидов ~ 1015 см-3.
ЭП450 (Fe–13Cr–2Mo–Nb–V–B–0.12C) (ОАО ВНИИНМ, Москва).
6
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
ДУО сталь ЭП450
• Оксид Y2Ti2O7 с решеткойтипа пирохлорид –когерентный с матрицей-Fe.
7
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
ДУО сталь KP4
• Оксиды Y2Al2O9 (YAM- Yttrium AluminumMonoclinic) в матрице -Fe.
• Размер нанооксидов d=2-30 нм, <d>=5 нм,концентрация~1016 см-3.
KP4 (Fe-15Cr-4Al-2W-0.35Y2O3) (проф. A. Kimura, Университет Киото).
• Маленькие наночастицы (<10 нм) когерентны с матрицей.
• Большие оксиды (~20 нм) как правило не когерентны из-за аморфнойоболочки.
8
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Осколки деления
9
нейтрон
ядерное
столкновение
вылетающие
нейтроны
-лучи
(энергия)
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Xe+23 , E 1,2 МэВ/нуклон
Циклотрон ИЦ-100
Режимы облучения:
1. Одиночные ионные треки (доза 1012 см-2).
2. Перекрытие ионных треков (доза > 1012 см-2).
3. Ионное перемешивание (доза > 1014 cm-2).
ЛЯР ОИЯР, Дубна
10
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Электронная подсистема (Sэ) Ядерная подсистема (Sя)
Распыляемый
ион
Ядерная подсистема
Электронная
подсистема
Потеря энергии высокоэнергетическими ионами
11
я э Глубина (м)
вакуум твердое тело
пробег иона R
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
ДУО сталь ЭП450 Xe (167 МэВ, 1x1012 см-2)
• Аморфные треки в нанокристаллических оксидах Y2Ti2O7.
• Нет других видимых эффектов облучения в матрице -Fe.
скрытые треки от высокоэнергетических ионов Xe
Одиночные ионные треки
12
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Главная особенностьвзаимодействиявысокоэнергетических ионовтвердым телом – это высокийуровень ионизирующих потерьэнергии, которые могут привести кобразованию специфическогорадиационного повреждения -скрытые треки
• Наночастицы повышают локализацию энергии облучения в ионном трекеи влияют на процессы формирования скрытых треков.
Механизм образования теков
13
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
ДУО сталь ЭП450 Xe (167 МэВ, 2x1012 см-2)
Перекрытие ионных треков
• Термический критерий: локальноеплавление вдоль пути иона, когдаSэ>Sэ
терм
• Кристаллизационный критерий:рекристаллизация из расплавленнойобласти
ио
ны
Xe
14
Дефектыкристаллизации
Трансформация электронных возбуждений в тепло
Область возбужденных электронов
Труба застывшего (рекристаллизированого)
материала
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
ДУО сталь KP4Xe (167 МэВ, 1x1014 см-2)
• Наночастицы Y2Al2O9 - аморфные.
• Формирование упорядоченных
выделений (Fe, Cr)3O4 (хромит),
включенных в решетку -Fe.
• Размер хромитов - 3 нм.
Ионное перемешивание
Y2Al2O9
15
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
ДУО сталь KP4Xe (167 МэВ, 1x1014 см-2)
• Большие наночастицы Y2Al2O9 не полностью аморфные(Присутствуют маленькие кристаллические включения в аморфныхтелах).
16
Ионное перемешивание
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Выводы(Sэ>>Sя)
• Скрытые треки наблюдаются в наночастицах Y2Ti2O7.
Режим перекрытия треков:
• Нет растворения наночастиц Y2Ti2O7.
• Полная аморфизация маленьких наночастиц Y2Ti2O7.
• Формирование упорядоченных включений (Fe, Cr)3O4.
Режим одиночных треков:
17
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Электронная подсистема Ядерная подсистема
Распыляемый
ион
Ядерная подсистема
Электронная
подсистема
Потеря энергии высокоэнергетическими ионами
18
я э Глубина (м)
вакуум твердое тело
пробег иона R
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Uglov, V.V. // Nucl. Instr. and Meth. B. – 2015. - Vol. 354. - p. 259-263.
19
Радиационная стабильность наночастицДинамические явления, возникающие в наночастицах при
облучениичастица
-коэффициент диссипации
F1, F2, F3 (F3`) > Fкр, Fкр=2Ua/a, где Ua –энергия активации миграционныхдефектов и a – постоянная решетки.Функция Хевисайда e(t)использовалась для учета порядка ипродолжительности воздействия сил F1,F2, F3 (F3`) на дефект.
-сечение взаимодействия(r,t) – радиальный компонент тензоранапряженийVdil – расширение объема
F3` - сила, действующая на дефект во времярассеяния фонона
термоупругиенапряжения
упругие возмущения, формируемые
термическим импульсом
упругие возмущения, формируемые
нестабильными парами Френкеля
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
• Дефекты мигрируют к поверхности: критерий “самоочищения” L R
5 10 15 20 25 30r, nm
20
40
60
80
L, nm
10 нм 25 нм
50 нм
Синий – 10 кэВ
Зеленый – 300 кэВ
Красный – 1 МэВ
Расстояние от центра наночастицы Fe (r), нм
Радиационная стабильность наночастиц
Радиус (R) наночастицы Fe
Email: [email protected] 15-16 сентября 2015, БГУ, Минск
Выводы (Sя>>Sэ)
Динамические явления при облучении активируют дефекты миграции
Уменьшение числа дефектов в наночастицах
Критерий “самоочищения” L R
21
Определение размера наночастиц, обладающих повышенной радиационной стабильностью