Kortherm Science Co., Ltd

회 사 소 개 서< Company Profile >

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㈜코썸 사이언스는 Laser Application 분야 및 Nano/MEMS Processing 분야의 장비를 공급하는 기술 혁신형 기업 입니다.

㈜코썸 사이언스는 1999년 창립 이후 Hot Embossing System,EUV Lithography, Interferometer 등의 장비를 연구소, 학교, 대기업등에 공급하여 왔으며, 최근 Laser Micro machine 및 3D Profiler를자체 개발 생산하고 있습니다.

㈜코썸 사이언스는 지금까지 축적된 경험과 지식을 바탕으로 Laser 응용 분야의 세계 최고 기술 개발을 목표로 하고 있습니다.

㈜코썸 사이언스는 최고 수준의 제품과 서비스를 제공하기 위해 최선의 노력을 다하겠습니다

코썸 사이언스 는

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회사 개요

대표이사 : 변 주 삼

임직원수 : 12 명

자본금 : 2 억

2007년 예상 매출액 : 약 30 억

장비 납품 실적 : 150건 이상

주소

인천광역시 부평구 청천동 425번지 우림 라이온스 밸리 C동 1203B

연락처

TEL : 032-623-6320, FAX : 032-623-6325

홈페이지

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1999 (주)코썸 사이언스 창립

1999 Neoark Laser Micromachining system 소개 (Agent 계약)

2000 Exitech Laser Micromachining system 소개 (Agent 계약)

2003 KIST – M2000 시스템 설치

2005 NNFC – M2000 시스템 설치

2005 KOS Series system 개발

2005 경북대학교 – KOS1000 설치

2006 부산대학교 – KOS1000 설치

2007 동아대학교, KPE, 삼성 등과 공정장비 개발 협의 중

기술 혁신형 중소기업 인증 (INNO-BIZ)

연구전담부서 설립,

벤처기업 인증

중소기업 기술혁신 개발사업 주관기업선정

회사 연혁

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CEO

경영지원부Administrative Service

Department

기술영업부Engineering Sales

Department

기술개발부Technology Development

Department

기술영업 1팀Engineering Sales Team 1

기술영업 2팀Engineering Sales Team 2

레이저 응용기술 연구팀Laser Application Technology

Development Team

광 기술 연구팀Optic Technology Development Team

소프트웨어 개발팀Software Development Team이사회

Board of directors

총무 인사팀General Affairs Team

구매 관리팀Purchasing Management

Team

회사 조직

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R&D 인력 : 8명박사 3명석사 4명학사 1명

개발팀장 : 서종식 (포항공대 대학원 – 물리학 전공)Mechanical Engineer : 윤홍식 (국민대 대학원 – 기계공학 전공)Process Engineer : 김정한 (연세대 대학원 – 재료공학 전공)Software Engineer : 강동오 (국민대 대학원 – 기계공학 전공)Optic Engineer : 김재진 (청주대학교 – 레이저 광 공학 전공)Technical support : 진병문 교수(동의대) , 문병기 교수(부경대)

김철한 박사 (부산대)

연구개발인력

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Laser Processing SystemELA (Excimer Laser Annealing) 시스템 개발 (경북대)

Laser annealing system 개발 (부산대)

Oxidation catalysis system 개발 (화학연구원)

Wafer cutting system 개발 (삼성전자)

Solar cell Laser fired contact system 개발 중 (KPE)

Solar Cell 양산 장비 개발 중 (에너지기술 연구원, etc)

Laser Measurement SystemSurface profiler 개발 (KPE)

장력측정 시스템 개발 (부경대)

PIV (Particle Image Velocimetry) 시스템 개발 중 (동아대)

Laser Interferometer 시스템 개발 중 (KAIST, KRISS)

납품실적

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Manufacturing Item

Laser Micromachining System (KOS system)

3D Profiler system

LIBS (Laser-Induced Breakdown Spectroscope)

LD Controller

PLD (Pulsed Laser Deposition)

제품소개

Offer Business Items

Hot Embossing System (Jenoptik – Germany)

EUV Lithography System (AixUV – Germany)

3D Profiler System (NanoFocus – Germany)

Laser Doppler Vibrometer System (Sunwave – Taiwan)

Spatial Light Modulator (HoloEye – Germany)

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Kortherm Products & Solutions

Laser Micromachining System (KOS system)

3D Profiler system (KOS-P)

LIBS (Laser-Induced Breakdown Spectroscope)

LD Controller

PLD (Pulsed Laser Deposition)

주요제품 (I) – Manufacturing Items

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KOS 시스템 개요

Laser Micromachining System

Sealed optics boxes

Lasers and optics mounted

to Granite for robust reliable operation

Vibration isolation

Up to 300 x 300mm travel X-Y stages

Motorized stages (3-Axis)

Vision system (pattern recognition,

monitoring)

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KOS 시스템 응용 사례

Applications of Laser Micromachining System

Nozzle drilling

Inkjet printers

PCB via hole

Wafer cutting & scribing

Marking

Thin firm scribing for FPD

Solar cell scribing

Excimer Laser Annealing

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대면적 Micromachining System(주1) Overview

Laser Micromachining for Large Area

DISPLAYS

Patterning thin films for FPDs

Annealing TFTs for AMLCD FPDs

Mastering of micro-lens arrays

SOLAR POWER

Solar cells

Solar panels

Type DPSS laser

Wavelength 532-1064nm

Pulse duration <50ns

Power >20W

Repetition rate 10.. 200 kHz

(주1) 본 연구는 2007~2008년 중소기업기술혁신개발사업의 일환으로 개발 진행중 입니다.

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Applications of Micromachining for Large Area

대면적 Laser 미세가공 응용 사례

50 µm scribe in Mo 50 µm scribe in ZnO

Solar cell scribing

Black matrix patterningMin. width = 5μm

ITO patterning on Glasswidth = 80μm

ITO patterning on Glasswidth = 200μm

FPD Patterning (LCD & PDP)

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3D Profiler System : KOS-P

KOS-P 시스템 개요

Laser Source: 650nm Diode laser

Measuring range: ±1mm

Resolution: 0.01um

Linearity: ±0.03% of FS

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LIBS, LD Controller

LIBS 시스템 SpecificationsLaser: Nd:YAG, 1064 nm, 10 ns pulse width, 100 or 200 mJ/pulseOptical: Czerny-Turner spectroscopeDetector CCD or Photodiode ArrayWavelength range: 200-950 nm (up to 1200 nm available)Spectral resolution: 0.1 nm @ 300 nmA/D Conversion time: 1 M samples per second

LD Controller Specifications

Drives up to 1 watt laser diode in CW mode

Monitors & controls diode temperature

Monitors diode current with series resistor

Controls diode current

Monitors & controls thru built-in photodetector

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Offer Business Items

Hot Embossing System (Jenoptik – Germany)

EUV Lithography System (AixUV – Germany)

3D Profiler System (NanoFocus – Germany)

Laser Doppler Vibrometer System (Sunwave – Taiwan)

Spatial Light Modulator (HoloEye – Germany)

주요제품 (II) – Offer Business Items

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Hot embossing system 주요Spec (HEX 04)

Higher throughput and also fully automatable for full scale production runs at larger institutes & manufacturing companies

• Pressing force increment :10N, 20N, 30N

• Maximum pressing force : 400kN • Cycle time : 3 minutes • Temperature stability : ± 1oC • Maximum substrate diameter : 300mm • Overlay accuracy : ± 2um

Jenoptik - Hot Embossing System

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Micro-optic Micro-fluidic Micro-mechanic

L.O.S fiber

Cannon

Fuji

Blusi

Bosch

JENOPTIK PC MT

LSU

LTU

JENOPTIK PC MT

Applications of Hot Embossing System

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AIXUV - EUV Lithography

Parameters of AIXUV’s EUV-Lamp

- EUV-Yield (total) : >50mJ /pulse

- EUV-Yield inband : >5mJ / pulse

- Input per pulse : 2J

- Input power : 200W

- Repetition rate : 100Hz

- Guaranteed lifetime of electrode : >250,000,000 pulse

- Certificates : CE, VDE

- Interface : CF-flange

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NanoFocus – 3D Profiler

Confocal microscope µSurf

area technique

Nanometer resolution

for MEMS, 3D surface analysis

Vertical resolution: 1nm

Lateral Resolution: 300nm

Scanning profilometer µScan

moving x/y-stages

different z-probes(autofocus, confocal, chromatic)

for profile, flatness co-planarity

vertical resolution: 20nm

Lateral Resolution: 1um

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Sunwave - Interferometer

Laser Source: He-Ne Laser

Spot diameter: 50X: 5um

Band width: 20MHz for Doppler signal

Displacement error: 0.4% of F.S

Max. Velocity detectable: DPU (Digital processing unit) –6.3m/s

Displacement detectable: 0.1 nm ~ 0.5 mm

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HoloEye – Spatial Light Modulator

Projection 응용

- Printer applications (Imaging, 3D)

- Optical Metrology and Fringe Projection

- Special projection applications

- HUDs and HMDs in airborne and defense

industries

- HUDs for automotive applications

- SLMs for R&D

- High resolution NTE applications (viewer)

Phase Modulation 응용

- Telecommunication 및 Holographic security systems

- Rapid DOE prototyping 및 Dynamic calibration

- Bio-Photonics applications

- Wave front generation

- Digital Holography, dynamic diffractive optics

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기업삼성전자, 삼성전기, 삼성 SDILG 전자, LG 화학

국가 연구센터KIST,KAIST ETRI, KETI, KRISS, KIMM나노 종합 팹 센터(경기/대전/포항/광주)고등기술연구원생산기술연구원광주과학기술원

대학기관서울대, 부산대, 경북대, 포항공대, 한양대, 연세대

주요 Customer