ナノテクノロジー・ソリューション事業説明会 -...

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2019/09/12株式会社日立ハイテクノロジーズナノテクノロジーソリューション事業統括本部

ナノテクノロジー・ソリューション事業説明会

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1. 2018中期経営戦略(18中経)の総括2. ナノテクノロジー・ソリューション事業概要3. 成長戦略4. 成長を支える事業基盤5. まとめ

Contents


1. 2018中期経営戦略(18中経)の総括1）実績の推移2）成長戦略における成果

2. ナノテクノロジー・ソリューション事業概要3. 成長戦略4. 成長を支える事業基盤5. まとめ

Contents


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200

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600

800

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2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018

(億円)売上収益推移

評価装置

（FY）

プロセス製造装置

・2015～2018年度はCAGR 13%の成長を達成・18中経期間のEBITマージン率は20%以上を維持

＊後工程・実装事業除く

実績の推移


1. 2018中期経営戦略(18中経)の総括1）実績の推移2）成長戦略における成果

2. ナノテクノロジー・ソリューション事業概要3. 成長戦略4. 成長を支える事業基盤5. まとめ

Contents


サービス事業拡大多様なニーズへの対応（新領域へ進出）

IoT市場への展開（製品ラインアップ拡充）

基盤事業成長（微細加工分野での事業拡大）

成長戦略における成果

基盤事業での成長と新ニーズ・新分野の事業拡大


サービス事業拡大多様なニーズへの対応（新領域へ進出）

IoT市場への展開（製品ラインアップ拡充）

基盤事業成長（微細加工分野での事業拡大）

●小口径対応高分解能測長SEM●パワーデバイス用基板検査装置

●3Dデバイス対応（深溝・深穴対応）高加速測長SEM

●IoTサービスポータル「ExTOPE」を活用したサービスソリューション構築

●エンハンス版マイクロ波ECRエッチング装置の拡販

●ウェーハメーカー向け光学検査装置拡販

●国内外研究開発拠点拡充

基盤事業での成長と新ニーズ・新分野の事業拡大

成長戦略における成果



Contents


1. 2018中期経営戦略(18中経)の総括2. ナノテクノロジー・ソリューション事業概要

１）事業運営体制の変更２）2021中期経営戦略(2021戦略)の基本方針３）市場環境４）2021中期経営戦略(2021戦略)の事業目標

3. 成長戦略4. 成長を支える事業基盤5. まとめ

Contents


2021中期経営戦略

産業システム

先端産業部材

電子デバイスシステム

科学・医用システム

2018中期経営戦略

移管

統合

アナリティカル・ソリューション

ナノテクノロジー・ソリューション

インダストリアル・ソリューション

Analytical & Medical Solutions

Nano-Technology Solutions

Industrial Solutions

電子顕微鏡等

事業運営体制の変更


ナノテクノロジー・ソリューション

Nano-Technology Solutions

「電子線技術」を集約・強化。半導体統合ソリューションの提供、新材料・バイオ等の新アプリケーションを創出。

事業運営体制の変更





Contents

11


2021戦略の基本方針

● 半導体向けに、加工・検査・不良解析を持つ唯一の装置メーカーとして、お客様の困りごとに対して統合ソリューションを提供

● 自動化やデータ活用、AI導入により、装置管理や加工パラメータの最適化や生産性向上に寄与

● 材料・バイオ分野向けに、新たなアプリケーションを提供＆科学技術の発展に貢献

「見る・測る・分析する」に「加工する」を加え新たな顧客価値を創造する





Contents

Copyright ©2019 Hitachi High-Technologies Corporation All Rights Reserved. 14参考：三菱総研レポート（2018年7月）

政治・地政学

■多極化する世界■保護主義政策の拡大■地政学リスクの複雑化（サイバー化等）

経済

社会技術

■超高齢化社会の到来■拡大する国内格差と社会の分断■シェアリング加速による循環型社会の実現■現実社会とサイバー社会の融合の加速

■アジアへの経済重心のシフト■中国・インドのさらなる成長■先進国と新興国の所得格差縮小

■AI･IoT･ロボットの浸透■国･世界レベルでのデータ統合の加速■予防･超早期診断の進展と医療格差拡大■エネルギー・食糧問題の技術による解決■気候変動への注目の拡大

市場環境① 潮流変化

貿易摩擦輸出入規制中国・アセアン

自動運転製造業の現地生産化、サービス化

データ活用サービスバイオ・ヘルスケア

新材料・製薬


5G／AI／自動運転などが半導体デバイス市場の成長を牽引

市場環境② 半導体市場

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2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021

出典: Gartner (2019年7月)

半導体売上高の推移 CAGR(2019年～2021年)=10%

(CY)

(10億ドル)2021戦略


020406080

100120140

Logic

DRAM

NAND

その他

(CY)

16

2018年までの実績はGartner(2019年7月)､2019年以降は当社予想

18中経 2021戦略（10億ドル）

• ロジックの投資は2019年-2021年で堅調に推移• メモリーの投資は19年に減速するも、20年以降は再び回復と予測

市場環境② 半導体市場

半導体メーカー設備投資額推移

2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021


市場環境③ 解析装置市場

電池・自動車部品市場での解析需要が増大

半導体向け短TAT*解析のニーズ増大（自動化・高スループット）

製薬/臨床での迅速検査ニーズが増大

出典：SDi 2019レポートデータをもとに当社推定

• 解析装置市場全体はゆるやかに成長（CAGR 1～3%）• 材料市場: 約60%、半導体市場: 約30%

分野別市場規模予想（2021年）: 合計1,350M＄

*TAT: Turn Around Time

材料市場約800M$

(60%)

半導体市場約400M$(30%)

バイオ市場約150M$（10%）

解析装置SEM TEM FIB





Contents


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500

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2,500

2016 2017 2018 2019 2020 2021

電子デバイスシステムナノテクノロジー・ソリューション

＊2018年度は旧電子デバイスシステムとナノテクノロジー・ソリューションの事業範囲（解析事業含む）の両方を記載

+20％

2016 2017 2018 2019 2021

2021戦略の事業目標

・2021年度の売上収益：2018年度比20%増（CAGR 7%）・EBITマージン率：2021戦略期間中15%以上を維持・サービス事業のEBITマージン率：25%以上を維持

（億円）

売上収益推移

（FY）



Contents


Contents

1. 2018中期経営戦略(18中経)の総括2. ナノテクノロジー・ソリューション事業概要3. 成長戦略

1）成長の方向性2）主力事業の成長戦略3）シナジーによる成長戦略4）サービス事業強化5）社会への貢献

4. 成長を支える事業基盤5. まとめ


成長の方向性

・日立ハイテクだけの強みにより、Focused Area でトップポジション獲得・新ニーズ対応製品ポートフォリオ強化により事業領域を拡大

・部品・保守・CIP*の継続的拡大・データ活用ソリューションによるサービスメニューの拡充

主力事業の成長（エッチング装置・電子線装置・光学装置・解析装置）１

2 シナジーによる成長

サービス事業の強化3

・エッチング・検査計測・解析の統合ソリューション提供により顧客価値を向上・予兆診断、AI活用レシピ生成などのデータ活用ソリューションを強化

*CIP: Continuous Improvement Plan


Contents





エッチング装置事業①

●Focused Area：ロジック低ダメージ加工市場2021年度市場規模 12億ドル（当社予測）

当社シェア 35%をめざす

ロジックトランジスタ加工→低ダメージ加工が必須

形状制御性

低ダメージ・高選択比

コンダクタエッチング装置方式比較

高速加工

0

50

100

150

22nm 14nm 10nm 7nm 5nm

低ダメージ高精度その他

ロジックのコンダクタエッチング工程数

コア技術であるM-ECR*方式の加工技術を深化させ､Focused Areaの「ロジック向け低ダメージ加工」でグローバルトップとなる

CCP**

ICP***

M-ECR

高低

低ダメージ高選択比

●メモリー顧客、中国顧客の新規開拓も進める

*M-ECR: Microwave Electron Cyclotron Resonance **CCP: Capacitive Coupled Plasma ***ICP: Inductively Coupled Plasma

(工程数)


エッチング装置事業②

GAA

等方性加工

FinFET**Planar Stacked GAA

ドライリムービングモジュール

異方性かつ形状制御性が重要等方性加工も重要となる

エンハンス版マイクロ波ECRエッチングモジュール

＜異方性加工＞・低ダメージ・高選択性・高形状制御性

＜等方性加工＞・低ダメージ・高選択性

GAA*デバイスなどの等方性加工市場向けに、新規にドライリムーブ装置を開発中

*GAA: Gate All Around **FinFET: Fin Field Effect Transistor


エッチング装置事業③

・共通プラットフォーム「9000シリーズ」に搭載可能なモジュール設計

・マイクロ波ECR方式による低ダメージ・高選択加工

・反応生成物の排気能力の大幅向上、磁場コイル配置最適化により、高精度加工を実現

エンハンス版マイクロ波ECRエッチングモジュール（コンダクターエッチング装置）

・ロジックトランジスタ加工等で要求される低ダメージ・高精度加工を実現・多彩な機能により原子レベルの寸法ばらつきを高精度に制御


電子線装置事業①

強みである「スタンダードなモノサシ」としての安定性および装置間マッチングの向上多様なCD計測ニーズへの対応

CD計測値

CG5000（従来世代）

CG6300(現行世代）

CG-Next(将来世代）

・装置間マッチング

向上

装置世代

・安定性向上(CD計測値ばらつき低減)

電子線装置の主力事業であるCD*計測でトップシェアを維持（CD計測市場シェア：75％以上）

*CD: Critical Dimension 多点計測異層パターン計測

２次元CD計測２次元複雑形状計測


電子線装置事業②

CD-SEMのトップシェアを足掛かりに、多様な顧客のニーズに応える製品を投入し製品ポートフォリオを拡大

3D 計測

3D-NAND等の深穴/構造計測異層間オーバーレイ計測

高加速 SEM

高速広域検査

高速多点検査/計測、EUV マスク検査、Hot-spot検査、Stochastic検査

Next EBI** system

CD-SEM

CD計測

高精度CD計測欠陥レビューSEM

多機能レビュー

多機能検査

ウェーハ面内CD分布

高速 CD-SEM

高速CDU* 計測

高スループット多点計測

** EBI：Electron Beam Inspection

*CDU: CD Uniformity


CV6300シリーズ（高加速測長SEM装置）

29

電子線装置事業③

・高加速電圧45kVのインラインCD計測SEM装置

・スループットを従来比25%向上

・寸法・オーバーレイの計測精度を向上

・装置間計測ばらつきを低減

・96層以降の3D-NAND製造に必要な深穴・深溝の高精度寸法計測を実現・先端のDRAMやロジックデバイスでの高精度なオーバーレイ計測を実現


光学装置事業①

30

デバイスメーカー向け波長266～355nmのレーザ技術とマルチ検出器により、低CoOと高感度の検査ニーズに対応

･工程数増加､プロセス複雑化､デバイス信頼性のため､製品ウェーハモニタリングによるライン管理ニーズが拡大

対象市場市場ニーズ

対応機種感度コスト裏面

デバイスメーカー

◎ 〇 - 高感度LS-Next

- ◎ - 低CoOLS9300A

ウェーハメーカー〇〇 ◎ 裏面対応

LS9300A-EG**

* CoO: Cost of Ownership ** EG: Edge Grip

高感度検査および低CoO*検査ニーズに特化した装置を提供し、検査市場シェアアップをめざす

パターンあり（DIシリーズ）パターンなし（LSシリーズ）

ウェーハメーカー向けウェーハ出荷検査向けに、裏面検査可能なエッジグリップタイプを市場投入し、ターゲット市場を拡大

･ライン管理ニーズ向けに､｢生産性｣｢検出力｣｢ユーザビリティ｣を最適化し、メモリーメーカーを中心に展開

*** TP: Throughput

生産性

検出力ユーザビリティ欠陥検出

ロバスト性向上

TP***、安定性、装置間マッチング

ユーザ支援機能充実化


光学装置事業②

・マルチディテクタ受光器と新型センサーにより、UV*光源（波長355nm）で19nm感度を達成

・生産性に貢献するスループット110wph**（@29nm感度）を実現

・エッジグリップオプションにより、ウェーハメーカーの出荷検査に対応

LS9300Aシリーズ（パターンなし欠陥検査装置）・メモリー/ロジックメーカーの高感度・低CoO装置管理用途に対応・エッジグリップオプションによりウェーハ裏面検査を実現

*UV: Ultraviolet** wph: wafers per hour


・自動化技術によるEM*

シェア拡大

半導体

a b

c

a: 自動取得連続SEM像

b: 三次元再構築像c: 三次元CD計測

解析装置事業①

・AIソリューションを異物検査/粒子解析に展開し、新市場開拓

新素材

・外部連携による自動化技術を強化し、医療領域の新バイオ市場創成

画像取得

AI学習

自動スコア付け

フィードバック

電子顕微鏡を用いたウィルスベクター品質検査例

バイオ

半導体・材料・バイオ分野の各Focused Areaへのソリューション提供により、シェア拡大・新たな市場創成を狙う

*EM: Electron Microscope


解析装置事業②

・自動マイクロサンプリング

・2つのレンズモードと3つの検出器を持つ高性能SEMカラム

・トリプルビーム®による低ダメージ加工

Ethos NX5000（高性能FIB-SEM複合装置）・自動化、高精度、低ダメージ加工による先端デバイスの高スループット解析に対応・各種材料や生体試料など目的に応じた幅広い解析に対応


SU3800

SU3900

解析装置事業③

・インテリジェントフィラメントテクノロジー

・観察から分析レポートまで一貫対応

・大型試料室（SU3900）重量5kg直径300mm径、高さ130mm対応

・ユーザフレンドリーなGUI*と広域移動に対応するSEM MAPによる簡単操作

SU3800/SU3900（走査電子顕微鏡）・多目的試料室搭載による多様化する顧客ニーズに対応・加熱、冷却、引張/圧縮などの外部ステージ搭載によるIn-Situ観察を実現

*GUI: Graphical User Interface


Contents





シナジーによる成長①

36

インライン検査・計測オフライン解析

エッチング

FinFET

ウェーハ面内CD分布計測断面観察

・オフライン解析の自動化とデータ活用の推進・高度化（AI活用等）・エッチングへの早期フィードバック⇒ プロセス開発期間短縮、量産歩留まり向上に貢献


シナジーによる成長②

加工-検査-解析データ統合プラットフォーム

CD計測アプリ

断面計測アプリレシピAI分析

アプリ欠陥検査

アプリ予兆診断

プラットフォーム

アプリケーション

プロダクト

・開発期間短縮・コスト低減・生産性向上顧客価値

・加工-検査-解析データを活用した統合ソリューションを提供・「見る・測る・分析する」に『加工する』を加え新たな顧客価値を創造

エッチング装置 SEM TEMFIB CD-SEM 欠陥検査装置


Contents


1）成長の方向性2）主力事業の成長戦略3）シナジーによる成長4）サービス事業強化5）社会への貢献



サービス事業強化

部品ビジネスの維持・向上／保守メニューの拡充

CIP**による多世代対応

データ活用ソリューションの展開(サービスポータルExTOPEを活用)

部品在庫と納期適正化によるCSの向上・グローバルサービス部品マネジメントシステム導入による在庫と納期の適正化・装置稼働率向上をめざしたリモートサポートシステムの提案

サービスメニューの拡充による事業拡大と利益確保・エッチング装置消耗部品シェアの維持・向上・予防保全、顧客課題別オーバーホールの提案・部品修理ビジネスの拡充

・新プロセス対応（多世代対応）・エッチング装置チャンバー追設

・エッチング装置診断ツールを開発中・CD-SEM用新保守サービスの提供

**CIP：Continuous Improvement Plan

CS*の向上とサービスメニューの拡充によりサービス事業を拡大（目標：EBITマージン率25%以上を維持）

*CS：Customer Satisfaction


ContentsContents


1）成長の方向性2）主力事業の成長戦略3）シナジーによる成長4）サービス事業強化5）社会への貢献



社会への貢献

41

ナノテクノロジー・ソリューションの事業を通して社会に貢献

・低消費電力での生産・低消費電力の装置を供給

・高効率・生産性の高い装置供給により産業に貢献・先端技術開発・供給により技術革新に貢献

・理科教育への貢献・アカデミアとの連携により科学技術の発展へ貢献


Contents



Contents

1. 2018中期経営戦略(18中経)の総括2. ナノテクノロジー・ソリューション事業概要3. 成長戦略4. 成長を支える事業基盤

1) 研究開発戦略2) モノづくり戦略3) 新工場の建設4) 人財戦略

5. まとめ


研究開発戦略

重点ポイント：・先端半導体顧客とのアーリーコラボレーションの強化・電子線技術を集約・強化、データ活用ソリューションの強化

研究開発投資額：・2021年度は2018年度比で約20%増強

0.5

1.0

1.5

2018 2019 2020 2021

（相対比） +20%（2018年度比）

（FY）

研究開発投資額アーリーコラボレーション

韓国、他米国台湾

*PEC: Portland Engineering Center**PICT: Process Innovation Center Taiwan ***JDP: Joint Development Program

オンサイト開発

PEC* PICT** JDP***

プロセス東京センター

日立製作所研究所

笠戸地区那珂地区小山地区

2018年度は解析事業を含めたリステート値


Contents



5. まとめ


モノづくり戦略

プロセスシステム事業

代表装置 9000シリーズ

モノづくり戦略モジュール設計・組み立ての徹底

モノづくりフロー

生産能力 2017年度比 3倍に増強（2021年度）

部品製作

ユニット

組立

モジュール

検査

モジュール

出荷

モジュール

組立

評価解析システム事業

CGシリーズCG6300

共通プラットフォームを活用し、外部環境に対応したフレキシブル生産

2017年度比 1.5倍に増強（2021年度）

ユニット組立

顧客個別対応総

合組立

調整・検査

出荷

共通本体組立

受注組合せ

（笠戸地区）モジュール生産と葉山工場・Gr会社活用により増産体制確立（那珂地区）2021年度新製造棟活用により生産性向上

部品製作


Contents



5. まとめ


新工場の建設

48

半導体製造装置を中心に、高精度・多様なラインアップ製品を、顧客要期に応え高品質に生産可能な新工場を建設。

半導体製造装置事業・解析装置事業の開発・生産能力を強化

デジタルトランスフォーメーションによりIoT/AI/自動化を進め、ロジスティクスから生産・出荷に至る､革新的な生産環境を構築。

所在地：茨城県ひたちなか市構造：鉄骨造地上6階建延べ床面積：約50,000平方メートル

着工：2019年11月竣工予定：2021年 2月


Contents



5. まとめ


人財戦略

アーリーコラボレーション

研究開発

海外販売・サービス体制

モノづくり・生産

・製品開発強化に向けて設計者増強・海外開発体制強化・海外販売・サービス、中国対応強化・2021年度は2018年度比で約10%の増員計画

マーケティング

・海外サイト・顧客先での開発者増強・顧客R&D攻略のための技術マーケティング強化

・組織統合による共通技術開発の高効率化（電子線）・AI導入加速・強化のためのエンジニア強化

・中国での販売網構築・グローバル視点での最適人財配置・拡充・現地サービス・プロセス・アプリエンジニア育成

・事業戦略・企画強化のための組織整備

・笠戸地区：葉山工場他活用による増産体制確立・那珂地区：2021年度新製造棟活用による生産性向上


Contents



まとめ

5G/AI/IoT/自動運転の普及により半導体市場は今後も成長。ナノテクノロジー・ソリューションは主力事業・シナジー・サービス事業強化により2021戦略においても継続成長してまいります。

・2021年度の売上収益：2018年度比20%増（CAGR 7%）・EBITマージン率：2021戦略期間中15%以上を維持・サービス事業のEBITマージン率：25%以上を維持

「見る・測る・分析する」に「加工する」を加え新たな顧客価値を創造する


【補足】 2019年度組織体制

執行役常務統括本部長

・野副真理

・石和太副統括本部長副統括本部長

プロセスシステム事業

笠戸地区設計・生産本部

（兼）本部長

プロセスシステム営業本部

・泉二郎本部長

評価解析システム事業

評価解析システム製品本部

・小室修本部長

評価解析システム営業本部

・松風和良本部長

サービス・新事業

カスタマーソリューション本部

本部長

事業戦略

事業戦略本部

・野副真理（兼）本部長

・飯泉謙・坂口正道・高見尚副本部長

ナノテクノロジーソリューション事業統括本部

・坂口正道


ナノテクノロジー･ソリューション事業説明会

＜資料取り扱い上の注意＞・本プレゼンテーションで述べられている決算概要および業績予想は、注記がある場合を除き、すべて連結であり、億円未満を四捨五入しています。・当社が開示する将来の業績見通しや戦略等に関する予想は、開示時点で知りうる情報や合理的と思われる前提をもとに策定しており、さまざまな外部要因による直接的・間接的な影響により、実際の当社の業績等が開示内容と異なる可能性があります。但し、開示内容との間に大きな乖離がある場合は、法令や証券取引所が定める適時開示規則並びに当社の自主的な判断に基づき、その都度開示していきます。

また、この資料は投資判断の参考となる情報の提供を目的としたもので、投資勧誘を目的として作成したものではありません。銘柄の選択、投資の最終決定は、ご自身の判断でなさるようにお願いいたします。

お問合せ先CSR本部 CSR・コーポレートコミュニケーション部部長桑原満TEL：03-3504-5138 FAX：03-3504-5943E-mail： [email protected]

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