교재명contents.kocw.net/kocw/document/2015/sungkyunkwan/... · 2016-09-09 · lcd 패널...
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디스플레이공학
성균관대 정보통신공학부 이준신교수
1
수업목표 :전기전자 소자, 반도체, 집적회로, 집적회로 공정 및 특성평가등의 강의에 필수적인 기초 물성론을 강의한다.
교재명 디스플레이 공학 (홍릉과학 출판사)
수업진행방법 : 교과서를 중심으로한 교수의 강의, 시각적 효과와 학생의이해를 돕기위한 대형 LCD Screen 강의를 병행한다. 본 과목은 국내 산업계가 메모리 반도체 분야를 앞서가는 광대한 산업을 형성한 정보디스플레이 시스템을 이해하기 위한 과목이다.
학수번호 : 3302022-41
응용분야 : 정보단말기, 가전 디스플레이, 통신단말기 등등
취업분야 : 상기응용분야 관련 업체
담당교수 : 이준신 교수
문의 :정보통신소자연구실(제 1공대 23228),
전자우편: [email protected], 전화 : 031) 290-7139, 018)257-7139
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성균관대 정보통신공학부 이준신교수
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1주 : 교과목 소개2주 : TFT-LCD 개요3주 : 비정질 실리콘 TFT의 동작원리 및 특성4주 : 비정질 실리콘 TFT의 구조 및 제작5주 : 다결정 실리콘 TFT의 구조 및 공정
6주 : 다결정 실리콘 TFT 소자 특성7주 : Color TFT-LCD 구조 및 동작 원리8주 : 중간 고사 또는 term project
9주 : Color TFT-LCD 제조 기술10주 : 외부초청 세미나(일정 추후 조정)
11주 : FED (field emission display) 소자의 기본 원리12주 : FED 소자 제작 기술 및 특성13주 : ELD (electroluminescent display) 소자의 기본 원리14주 : 유기 EL
15주 : ELD의 소자 구조 및 특성16주 : 기말 고사
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과제 각 chpater 별 부여되는 report (term project)
참고문헌
디스플레이공학 이종덕외, 청범출판사"Electronic Display" (마츠모토 쇼이치_성안당)“TFT/LCD" (원저: T.Tsukada_북스힐)
평가방법
출석 과제 중간 기말 평소학습 기타 합계
1015
(project팀)30
(개별)
30(개별/팀별)
15(발표조)
0 100
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Classification of Electronic Information Displays
TV
컴퓨터
통신기기
산업용기기
전기적 정보신호 빛 정보신호 패턴화 정보
빛 발광형빛 비발광형
a2
도형
화상
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Classification of Electronic Information Displays
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Classification of Electronic Information Displays
Emissive
Display
Electronic Information Displays
Flat Panel Display Projection
Non Emissive
Display
Cathode Ray
TubeLight Valve
FED VFD PDP ELD LED LCD ECD
TN STN TFT MIM FLCD
CRT
Light Output
Phosphor
Wire Grid
Glass Tube
ShieldedElectrode
Cathode
Seal
Glass
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System LCD High Resolution Video 지원
SRAM을 내장한 Toshiba의 LCD
다중 드라이버를내장한 Sharp의 LCD
DRAM을 내장한 Mitsubishi Electric의 LCD
LCD Panel
NEC의 임펄스 타입 LCD
Hitachi의 임펄스 타입 LCD
Mitsubishi가 디자인한 과전압 적용 설계
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FHP의 저전압 구동 32인치 PDP TV
PDP
iFire의 고순도 컬러 8.5인치 비유기EL
비유기ELFED
Pixtech의 자동차용 7인치FED
Sony-Candescent의 800cd/m2의
13.2인치 FED
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폴리머 저분자 소재
Epson-CDT와 공동 개발한 잉크젯 방식의 260,000 컬러 EL
Philips의 area 컬러 EL
유기EL
Toshiba의 잉크젯 방식의260,000 컬러 EL
DuPont의 폴리머 단색 EL(왼쪽)
Sony의 13인치 SVGA EL
PDA용 Pioneer Tohoku의 3인치 EL
Samsung SDI의 8인치 SVGA EL
Sanyo Electric의 5.5인치 EL
Optrex의 면 컬러 EL RiTdisplay의 컬러 EL
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전자 디스플레이의 접근법 종이의 접근법
Sharp의 컬러 필터가 없는LCD 패널
NEC의 컬러 필터와 편향 플레이트가없는 LCD 패널
전자 종이
IBM Japan의 컬러 필터와 편향플레이트가없는 LCD 패널
Toshiba의 메모리 타입 LCD 패널
E Ink-IBM의 83ppi, TFT 드라이버를 갖춘 12.1인치 전자종이
E Ink 그룹의 120ppi, 3.1인치전자종이
E Ink-Philips의 82ppi, TFT 드라이버를 갖춘 3.5인치 전자종이
E Ink의 유연한 패널(도트 매트릭스)
E Ink의 유연한 패널(고정된 패턴)
E Ink-Toppan의프린팅컬러 패널
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Aurora rear 프로젝터
Philips의 64인치 LCD 프로젝터
Samsung의 50인치 LCD 프로젝터
LCOS(프로젝터)
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12FPD Roadmap
TFT-LCD
Projection
PDP
1920x1080
10 20 30 40 50 100
Resolution
Diagonal Size(inch)
VGA
SXGA
1280X768
OLED
60
Future TFTLCD-TV
Current LCD-TV
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CRT의 원리
전자의 수 밝기
형광막 셀수 해상도
R,G,B 형광막 칼라
상의 형성 전자총의 SCAN(1/60초)
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CRT 구성
(a) (b)
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15FED의 원리
Control Logic Circuit
Ro
w D
rive
r
V-Sync.
H-Sync. & Data
Anode Plate ( Phosphor)
Video Source
Column Driver
FEA Panel
Pixel
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16FED의 구성
(a) (b)
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17TFT-LCD의 구성
(a) (b)
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ON OFF
TFT-LCD의 원리
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TFT의 원리
Polarizer
Glass
Polarizer TFT
ITO
LC
Alignment
Film
RGB Filter
Alignment
Film
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무기 EL의 원리
Elecrtoluminesence
Glass
Al
AC
ZnS:Mn(~1 m)
InSnO2(~0.2 m)
a-BaTiO 3(~0.5 m)
V
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21유기 EL의 구성
(a) (b)
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22유기 EL의 원리
금속전극 (Al)
투명 전극 (ITO)
유리
유기물(EML)
유기물(HTL)
유기물(ETL)
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23Organic Light Emission Display(OLED)
Metal
cathode
Anode
(transparent electrode)
Organic
Layers
Glass substrate
Al
Wiring Light
Metal
Cathode
Transparent
Anode
Metal Anode
Translucent
Cathode
Transparent Plate
Light
Emissive
Layer
Buffer
Layer
Emissive
Layer
(a) Bottom emission (b) Top emission
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OLED Passive type 과 Active type의 비교
Passive type Active type
구동법
고휘도고정세화
소비전력
소형화
소자구조cost
Duty 구동(Row line선택시 on)
Static 구동(anytime on)
Row line 수 증가에반비례하여 휘도 감소Row line 수에 한계(현 240개)
Row line 수에 관계없이고휘도 실현 가능
Row line 선택시 요구 휘도X Row line 수의 휘도가 필요
고전압 구동
요구 휘도의 구동 전압에서항시 발광 저전압 구동(저소비 전력화)
구동 IC를 외장 구동 IC를 패널 상에 내장소형화
단순 매트릭스단순한 공정
저온 poly-Si
복잡한 공정
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OLED 성능 발전추이
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OLED 응용제품
1998 1999 2000
Pioneer5.2” PM-OLED Sanyo-Kodak
5.5” AM-OLED
Pioneer, PM4 Area Color
OLED
ETRI
2” PM-OLED
Sony
13” AM-OLED
SDI 15.1” XGA AM-OLED
UDCOLED
PioneerOLED
CDT-Seiko Epson2” AM-PLED
DNPOLED
1999
LG, 8”-Full color
2001
LG, 1.8”
Full color
Motolora
Area colorToshiba
2.8”
Full color
Flexible 유기EL
유기 EL
TMD17” AM-PLED
XGA
2002
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(a) (b)
플라즈마 디스플레이의 구성
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28Structure of AC PDP
Glass
ITO
Bus
electrode
Dielectric
material
MgO
Address
electrode Dielectric
material
Barrier
rib
Phosphor
Visible light
VUV VUV
Visible light
Sustain Electrode
Dielectric Layer
MgO Layer
Barrier Rib
Phosphor
Address ElectrodeGlass
Glass
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29PDP Fab. Process
Front Glass
투명전극 형성
Bus전극 형성
투명유전층 형성
Frit 도포
MgO막 증착
Rear Glass
Address전극 형성
유전층 형성
격벽 형성
형광층 형성
Frit 도포
Printing,
후막·노광법(감광성paste)
Printing,
Coating (Green sheet)
Printing
E-Beam
Evaporation,Sputtering, Ion
Plating, …
Printing,
후막·노광법(감광성paste)
Printing
Printing, Sandblasting,
Pressing, Etching, Lift off, …
Dispensing
Printing, 후막·노광법,Dispensing, …
Etching (ITO/SnO2)
상·하판 Align
InterconnectionAging
봉착/배기/가스주입
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30Energy loss factos in AC PDP
AnodeCathode
VISIBLE LIGHT
IN PDP CELL
PHOSPHOR
EXCITATION
ELECTRIC
INPUT POWER
DISCHARGE
VUV RADIATION
DISPLAY LIGHT
TOTALSTEP
70%
10%
50%
25%
70%
LOSS
100
70
7
3.5
0.8
0.56
Circuit Loss
Visible & IR Radiation
Gas Heating
Self-Absorption &
Absorption by MgO
Internal Loss
of Phosphors
Absorption by
Wall & Bottom
Absorption by ITO
& Dielectrics
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31AC PDP와 CRT 비교도
10"
20"
Luminance[cd/m2]
(with filter)
2
200
300
Dark room
contrast
200
300
400
500
Bright room
contrast
Power consumption(40 inch)
20004000
60008000
10000
Color temperature
Resolution
UX
GA
SX
GA
XG
A
SV
GA
VG
A
Price[10,000Y](40 inch)
50
Size
60 "
PDP
CRT
200
300
400
500
40
50
30
20
20
40
30
30"
50"
500400
40"
60
CG
A
10"
20"
Luminance[cd/m2]
(with filter)
2
200
300
Dark room
contrast
200
300
400
500
Bright room
contrast
Power consumption(40 inch)
20004000
60008000
10000
Color temperature
Resolution
UX
GA
SX
GA
XG
A
SV
GA
VG
A
Price[10,000Y](40 inch)
50
Size
60 "
PDP
CRT
PDP
CRT
200
300
400
500
40
50
30
20
20
40
30
30"
50"
500400
40"
60
CG
A
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트랜지스터의 발명
1947년 점접촉형 트랜지스터 개발1951년 접합형 트랜지스터의 발명
(Shockly, Bardeen, Brattain)
반도체 산업의 확립
1954년 트랜지스터의 실용화1958년 IC의 등장1971년 Micro Process 등장
TFT의 발명
1961년 CdSe-TFT의 발명(Weimer, 미 RCA Lab.)
응용
센서, 고체 촬상소자, 고압 스위치
AMLCD의 발명
1971년 AMLCD의 제안1972년 CdSe-TFT Active Matrix액정의 개발1975년 CdSe-TFT구동 Matrix EL의 개발
Si 박막의 등장
1979년 a-Si TFT의 시작1980년 저온 poly-Si TFT의 시작1981년 a-Si TFT 액정디스플레이의 개발
(Brody, 미 Westinghouse Research Lab.)
TFT LCD의 제품화
1984년 고온 poly-Si TFT 액정 TV의 실용화1986년 a-Si TFT 액정 TV의 실용화
TFT 산업 확립/성장
1991년 TFT컬러액정 탑재 Note PC의 실용화
TFT LCD 개발 역사
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33
TFT-LCD 구성도
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TFT 동작 개념도
Glass substrate
Gate
Drain Source
Gate insulator
Si film
ON
OFF
D S
G
GATE VOLTAGE (V)-20 -10 0 10 20 30
LO
G D
RA
IN C
UR
RE
NT
(A
)
-13
-12
-11
-10
-9
-8
-7
-6
-5
-4
-3
-2
-1
Vd (V)
0.1TFT ON
TFT OFF
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Glass substrate
a-Si:H
Source DrainGate
Gate Insulator
Glass substrate
DrainSource
Gate
Gate Insulator
a-Si:H
Glass substrate
a-Si:H
Gate Insulator
Gate
DrainSource
Glass substrate
a-Si:H
Gate Insulator
Gate
DrainSource
Etch stopper
1) Coplanar type 2) Stagger type
3) Inverted Stagger type4) Inverted Stagger - ISI type
TFT 대표적 구조
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TFT-LCD 분류
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TFT-LCD 응용제품
HMD PDA DSC Automobile HPC
Portable DVDNotebook Monitor
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38삼성전자 TFT-LCD 모니터 변화도
20” 22” 24” 28” 30” 32” 34” 36” 38” 40”26” 42” 44” 48”46” 50”18”
17“ W x 6 up
22” W x 3 up
32” W x 2 up
40” W x 1 up
22” W x 8 up
26” W x 6 up
40” W x 2 up
46” W x 2 up
54” W x 1 up
Line-4
(730×920)
Line-5
(1,100×1,250)
46” W
40” W
32” W
26” W
17” W 22” W
Full line-up : 17”, 22”, 26”, 32”, 40”, 46”, 54” wide 54” W
52” 54” 58”56” 60”
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39No. of panels for different TFT-LCD Generation
Generation Gen. 4 Gen. 5 Gen. 6 Gen. 7
Samsung FAB L-4 L-5 L-6 Sharp & LG-P L-7
Substrate Size(mm)
730x
920
1100x
1250
1100x
1300
1500x
1800(1850)
1870x
2200
17”W 6 (79%) 12 (77%) 12 (74%) 24 (76%) 36 (77%)
22”W 3 (65%) 6 (64%) 8 (81%) 12 (63%) 24 (85%)
26”W 2 (60%) 6 (88%) 6 (84%) 12 (87%) 18 (88%)
30”W 2 (79%) 3 (58%) 3 (56%) 8 (77%) 12 (77%)
32”W 1 (43%) 2 (42%) 3 (61%) 8 (84%) 12 (86%)
37”W 1 (59%) 2 (58%) 2 (56%) 6 (86%) 8 (78%)
40”W 0 2 (68%) 2 (65%) 4 (66%) 8 (91%)
42”W 0 2 (75%) 2 (72%) 3 (56%) 6 (75%)
46”W 0 2 (89%) 2 (86%) 3 (66%) 6 (90%)
54”W 0 1 (61%) 1 (59%) 2 (61%) 3 (61%)
30s
40s
# of LCD-TV(wide) panels per mother glass & glass utilization
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40TFT-LCD 기술 성능비교도
LCD-TV
PDP-TV
CRT TV
Projection TV
Brightness
Moving
Picture
Cost
Resolution
Contrast
Weight
&
Depth
LCD-TV
PDP-TV
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41TFT 제조관련 공정기술
비정질 박막 트랜지스터의 제조기술
가. Sputter 기술
나. CVD 기술
다. Photolithography 기술
라. Dry etching 기술
마. Wet etching 기술
바. 세정 기술
아. 차기 line 자동화 기술
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42TFT 구조/Gate 전극
반도체 층 식각 시 기판 쪽에서 UV 노광
게이트 전극의 귀퉁이 경사도를 유지(Taper 구조)
누설 전류 저감
고 On/Off 전류비
절연막과 활성화층의접합상태를 개선
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43Poly-Si 결정화 기술
HTPS(High Temperature Poly-Silicon):일진LTPS(Low Temperature Poly-Silicon):삼성
As-deposited (LPCVD) SPC(Solid Phase Crystallization) ELA(Excimer Laser Annealing) RTA(Rapid Thermal Annealing) CGS(Contimuous Grain Silicon) SLG(Super-Lateral Growth) CW(Continuous Wave) Laser MIC(Metal Induced Crystallization)
MILC(Metal Induced Lateral Crystallization) SLS(Sequential Lateral Solidification) AMFC(Alternative Magnetic Field Crystallization) FALC (Field Assisted Lateral Crystallization)
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44레이저 Poly-Si 결정화 기술
활성층의 측면을 레이저광 조사로 어닐링활성층 측면에 패터닝 때 생긴 결함 집중결함에 기인하여 Off 전류 발생활성층 측면의 결정성 향상, 결함 감소, Off전류 감소.[3124445(일본) Semiconductor Energy Lab].
레이저 빔을 끝부분이 겹치게 스캔하는 방법
[269350(한국) LG.필립스 LCD]
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45고 개구율 기술
TFT-LCD 고개구율화 ----- 저 소비전력
TFT 성능 향상 : 전계효과 이동도 향상 기생 용량 저감 : TFT 소형화, Self-aligned TFT 저저항 Bus line : 저저항 금속 재료, 평탄화된 thick line 배선의 미세화 : B/M on Array, C/F on Array
COA AOC
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46
TFT-LCD 제조공정
TFT투입
Module
공장
C/F투입
초기세정 배향막인쇄 Rubbing
Spacer 산포
Seal인쇄
합착
절단액정주입최종검사 봉지
+
+
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47
TFT-LCD 제조공정 개선
Column Spacer
(사진노광 기법 형성)
C/S
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48
TFT-LCD 제조공정 개선
Sealant & Short
Dispensing
L/C Dropping Assembly & Press
UV CurePanel
Cutting Process
LC LC
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49
Process Simplification
PI Print
Rubbing
Seal Print
Short Dispense
TFT-Array
Rubbing
Substrate Assembly
Seal Line Hardening
Cell Scribe & Break
L/C Injection
Polarizer
Module Assembly
PI Print
Color Filter
End Seal
* No Column Spacer
>1 day
기존 기술 방식
PI Print
Seal PrintShort Dispense
TFT-Array
L/C drop-filling
Cell Scribe & Break
Polarizer
PI Print
Color Filter
* w. Column Spacer
<1 hr
신 기술 방식
Spacer Spray
Rubbing-less
Module Assembly
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50
광시야각 기술
수평 전위차 구동기판 평면내 액정 동작Normally Black
개구율 저하C/R < 400:1
고 전압 구동(>13V)
상하판 전위차 구동Up-down 액정 동작Normally Black
액정 Rubbing 공정 불필요C/R > 800:1
저 전압 구동 (~10V)
on
OFF ON
~
IPS-mode
LC Molecule
E
PVA-mode
E ITO
편광판
~액정
편광판
C/F 기판
TFT 기판
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51
Now 2005
LCTN Mode
New LC Mode
High Speed + Wide V/A Mode
CRT Compatible
Process
Innovation
Reduced Process Step
Material Innovation
Discrete Elements
Low Temp. Poly-Si System LCD
85 ~ 100 dpi
Flexible Substrate
Future
TFT LCD
One ChipHybridDriving
Circuit
Process InnovationProcess Innovation
- 250 step → 100 step
Cost InnovationCost Innovation
- $25/inch → $10/inch
Circuit Integration
Paper Like Display
Sheet Backlight
200 ~ 300 dpi
2010
TFT-LCD Roadmap in Korea (Samsung)
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52a-Si TFT-LCD
a-Si TFT: NPC, Monitor, TV 시장 확대
핵심과제 : 제조 원가 절감: CRT 수준
대형장비 개발: 대량 생산, 대화면화
제조원가 절감 Mask수 감소, 소재의 국산화, 소재 사용량의 감소, Robot 개선 및
장비 설계변경
신규장비 개발 Metal 성장: sputtering Spin on metal, Metal printing, Hollow
cathode CVD, 27.56MHz의 사용
Metal etching: Wet etching Dry etching, 공정단순화
Glass의 대형화: 1,100x1,250 mm (제5세대 라인) 2002년 하반기
1,500x1,800mm (제6세대 라인) 2004년 예정 (LG)1870x2200mm (제7세대라인) 2003년 진행 (삼성)
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53
poly-Si TFT-LCD
고온 폴리 실리콘 TFT 주요응용 제품: 데이터 Projector
핵심과제 : 고휘도화, 소형 저가격화
고 개구율화높은 화소 용량, 좁은 gap의 cell 조립
강력한 입사광소자의 차광구조 진화
Panel의 온도상승냉각 시스템개선
저가격화 Panel size의 down sizing화
0.7 inch module PJ : $2000
장래 $1000 등장 예상
저온 폴리실리콘 TFT의 목표 시스템 display 구현
Display 뿐만 아니라 CPU, 메모리 등을 유리 기판상에 집적
1) LTPS TFT 고성능화 (단결정 Si 박막과 양호한 MIS 구조)
2) 설계 rule 미세화 (1μm- sub μm)
3) 신뢰성 향상 (short 채널 효과 해결)
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54System on Glass (SOG)
SEL-Sharp
CGS 기술 이용
8bit CPU 실장 글래스 기판 발표(2002.10.26)
13,000개 TR
cf: P4:5,500만개
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55
Plastic Substrates for LCDs
Advantages of Polymer Compared to Glass Substratesmore rugged
lighter weight
more compact
conformal
flexible
roll-to-roll compatible
Disadvantagesmuch lower processing temperatures
poor thermal stability
surface roughness
susceptible to chemicals
nascent display and TFT fabrication technology
Front surface : Protect thermal diffusion ( deposition or crystallization)
Back surface :Balance thermal stress ( from substrate heater)
CVD or Sputtered
SiNX, SiO2, , CeO2
Plastic substrate
Buffer layer
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56
3차원 디스플레이, 3D
(a) (b)
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(a) (b) (c)
기타 디스플레이 (전기화학, 전기영동, VFD)
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세계 전자 디스플레이 시장
단위는 십억 $
Display 종류 1999/2000 2005
액정 Displays(active) 13.0 / 16.8 31.3
액정 Displays(passive) 4.5 / 5.5 5.8
Plasma Display Panels 0.5 / 0.8 5.2
기타 다른 평판 Displays 1.4 / 1.4 1.9
(EL, FED, LED, OLED, VFD)
모든 평판 Displays 19.3 / 24.5 44.2
CRT 23.5 / 29.9 26.8
모든 전자 Displays 42.8 / 54.3 70.9
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59
세계 평면 전자 디스플레이 시장
0
5000
10000
15000
20000
25000
30000
35000
40000
45000
50000
1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005
Mill
ion
s $
LCD-Active LCD-Passive PDP OLED All Other
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60
CRT 역사
역사 : TV (101년)
한국 역사 : 70년대 시작 (금성, 삼성, 대우)
80년대 수출
90년대 최대 생산국(30%이상)
산업상의 주요 특성
저가 생산
이상적인 디스플레이
긴 수명
저변 확대(재료, 장비, 시스템 회사)
주 응용분야
TV, Monitor
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CRT 의 장래
6개월마다 기능이나 형태의 개선
두께가 짧아진다
완전평면
눈, 인체 보호막
형광물질 : 낮은 전력소모
TV (100%), Monitor (90%)
생산량의 증가율이 매우 낮지만 줄지는 않을 전망 (2010년)
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LCD 역사
1854년 : 액정 (R.C.Virchow, 독일)
1962년 : LCD (Williams 특허, RCA 미국)
1971년 : TN-LCD (Shadt, Helfrich, 스위스)
1972년 : AM-LCD (P.Brody)
1979년 : a-Si TFT (LeComber)
1982년 : Pocket TV 최초개발 (일본 Seiko Epson)
1988년 : 4” TV 상품화 (Hitachi, Sharp)
1992년 : 10” Notebook (Toshiba, Matsushita, NEC)
Samsung 개발시작
1993년 : 17” 1280*1024 (Sharp), 14” (Samsung)
1994년 : 21” (Sharp), 9.5” 640*480 (LG)
1995년 : 22” VGA급 (Samsung)
1996년 : 40”(28” 2개 연결, Sharp)
1997년 : 30” TFT-LCD (Samsung)
2000년 : 29” TFT-LCD TV(LG-Philips)
2001년 : 40” TFT-LCD (Samsung)
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세계 TFT-LCD 업체별 생산순위
순위 1997 1998 1999 2000 시장점유율
(1999/2000)
1 Sharp Samsung Samsung* Samsung 18.8 / 20.1
2 NEC Sharp LG+ LG-Philips 16.5 / 14.7
3 Samsung NEC Hitachi Hitachi 10.1 / 10.2
4 Toshiba LG Sharp Sharp 10.0 / 7.9
5 IBM Toshiba NEC NEC 9.1 / 7.2
* Notebook 시장 1위+ Monitor 시장 1위
전자신문 2000.10.24, 2001.1.16
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전자신문 2001.4.18
91% 73% 65%
41%
49%82%100
%
0
50
100
150
200
250
1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002
단위
: 억
달러
대만
한국
일본
9
%
18
%
27
%
35
%39
%
42
%
43
%
13
%
22
%
27
%
91
%
82
%
73
%
65
%48
%36
%
30
%
세계 TFT-LCD 국가별 시장 점유율
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Universal Flat Panel
TV Applications
Computer Monitors
Small Hand Held Applications
Notebook, e-book, PDA, etc
Large Size (40” 이상)
Applications
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LCD 특성
휘도
콘트라스트
시야각
크기
색
반응속도
해상도
AM LCD
200 nits 이상
100:1 이상
24 bit
15 ~ 30msec
130 dpi
60°(H), 45°(V)
0.5 ~ 22”
PM LCD
100 nits
40:1
18 bit
50msec 이상
70 dpi
50°(H), 25°(V)
17” 이하
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67
15” 1280 X 1024 Color a-Si TFT 모듈의 생산가 추이
0
200
400
600
800
1000
1200
1400
1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010
To
tal M
od
ule
Co
st
($)
Fixed Costs Display Materials Electronics Other Variable Costs
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플라즈마 디스플레이 (PDP) 역사
1927년 : Bell. Gas 방전에 의한 단색 동화상 표시장치
1955년 : Inglebert와 Skelle에 의한 현대 PDP 기본구조
1961년 : Illinois 대 Bitzer와 Slottow에 의한 AC형 PDP 원리
1968년 : Owens 실용화
1980년대 : 단색 PDP의 Notebook Computer (일본, 한국)
1992년 : Fujitsu 21” Color AC PDP 제품화
1996년 : Fujitsu 42” Color AC PDP 제품화
1998년 : LG 전자 60” Color HDTV PDP
1999년 : 삼성 SDI 65” Color HDTV PDP
특성
대화면
Full 칼라
Video Rate
Application
Public information display
TV
디스플레이공학
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69
300457
661959
1456
2305
3507
5216
0
1000
2000
3000
4000
5000
6000
1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005
백만
$
PDP Market
디스플레이공학
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70
EL (Electroluminescent)
무기 EL
특성 : 저 생산가, 고 신뢰성
응용 : 측정기, 의료기, 금전등록기 등
시장 : $1억/년 정도로 포화
유기 EL
특성 : 5~ 20V 동작, 저 생산가, 고 효율
문제점 : 수명과 칼라
응용 : Consumer Product
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OLED 시장
소형 LCD, LED, VFD, Backlight 시장 대치가능
미, 일, 한국에서 가장 경쟁적으로 연구 개발하는 디스플레이
수명, 색, Uniformity 문제
3 18
66
142
300
500
717
0
100
200
300
400
500
600
700
800
1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005
백만
$
디스플레이공학
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VFD
Small Size, Low Cost
$6억 ~ $7억/년 정도로 포화
삼성 SDI, Futaba(일본) 생산
디스플레이공학
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FED (전계 방출 디스플레이)
모든 특성이 최상 : 이상적인 CRT의 특성
저 전압 형광체의 개발이 문제
저가 재료를 이용한 고성능 제품 가능
Futaba, Motorola, Candescent, PixTech, Micron 등에서 수 억불씩 투자
삼성, LG, ETRI, 서울대에서 개발 중
디스플레이공학
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74
디스플레이의 전망
CRT : 2010년 까지 4%~0% 성장율
TFTLCD : 현재 $140억에서 2005년 $300억 성장
PDP : 현재 $6억에서 2005년 $52억 성장
새로운 기술 : OLED, FED