由于热激发而 产生的自由电子 自由电子移走后 而留下的空穴

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由于热激发而 产生的自由电子 自由电子移走后 而留下的空穴. 图 3-1 电子、空穴对的产生. 邻近电子只空位 留下 可移动空穴 可移动的空穴 杂质原电子接受一个 电子成为负离子. 图 3-2 P 型半导体的共价键结构. 杂质原子提供 的多余电子 杂质原子失去一个 电子成为正离子. 图 3-3 N 型半导体的共价键结构. N 型区. 空间 电荷区. P 型区. 内电场. 图 3-4 PN 结的形成. U F. U F. I F. I R. 1 2 2 1. 2 1 1 2. P. N. - PowerPoint PPT Presentation

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由于热激发而产生的自由电子

自由电子移走后而留下的空穴

图 3-1 电子、空穴对的产生

邻近电子只空位留下可移动空穴

可移动的空穴

杂质原电子接受一个电子成为负离子

图 3-2 P 型半导体的共价键结构

杂质原子提供的多余电子

杂质原子失去一个电子成为正离子

图 3-3 N 型半导体的共价键结构

P 型区 空间电荷区 N 型区

内电场

图 3-4 PN 结的形成

外电场

1 2 2 1

IF

UF

1′2′ 2′ 1′内电场外电场

2 1 1 2

IR

UF

2′1′ 1′2′内电场

P NP N

 图 3-5   PN 结加正向电压 图 3-6   PN 结加反向电压

图 3-7 半导体二极管的结构及符号( a )点接触型;( b )面接触型;( c )平面型;( d )符

阳极 N 型锗片 阴极引线 引线

阳极 阴极引线 引线

阳极 a k 阴极

阳极引线

PN 结

金锑合金 底座

阴极引线

(a) 触丝 外壳

铝合金小球

( b )

N 型硅

PN

P 型支持衬底

( c )

( d )

阳极 a k 阴极

90℃

20℃

-60℃

iD/mA

20

15

10

50

-60 -40 -20

0.2

0.4

0.6

uD/V

-10

-20

-30

-40

iD/A

iD/mA

uD/V-60℃

90℃20℃

图 3-8 锗二极管 2AP15 的伏安特性 图 3-9 温度对二极管伏安特性的影响

a +

-k

ΔuZ uZ

iZ/m

A

uZ/

V A

C

ΔiZ

O

( a)

( b)

图 3-10 稳压管的电气符号与伏安特性( a )符号;( b )伏安特性

RL

iO(iL)R

iZiR

uo

+

-

+

-

VDZui

图 3-11 简单的稳压电路

( a ) ( b ) ( c )

c 集电极

集电结

发射结

N

集电区

P

基区

N

发射区

发射极e

b

e

c

b

e

c

图 3-12 三极管的结构与符号( a ) NPN 型 BJT 结构示意图;( b ) NPN 型 BJT 符号;( c ) PNP 型 BJT

符号

b

c

c

e

b

b

ce

(a) (b) (c)

VVV

图 3-13 三极管在放大电路中的三种连接方式( a )共基极;( b )共发射极;( c )共集电极

c

IB

IB

b UCE

N

P

NUBE

IE

图 3-14 NPN 管共射电路接法

c

b

IE

e

V

IC

IB

UBE

c

be

V

IC

IB

UBE

UCE UCE

IE

图 3-15 两种晶体管电路接法的区别( a ) NPN 型管;( b ) PNP 型管

iR/A

c

b

IE

e

V

IC

IB

UBBUCE

RB

RC80

60

40

20

0 0.2 0.4 0.6 0.8 uBE/V

u CE=

0V

uC

E≥

1V

25℃

iC/mA

4

3

2.32

1.51

0 2 4 6 8 uBE/V

iB=20 A

25℃

饱和区

放大区 100

60

40

截止区

ΔiC ΔiB

80

Q

( a ) ( b ) ( c )

图 3-16 NPN 管的共射极特性曲线( a )电路图;( b )输入特性曲线;( c )输出特性曲线

d (漏极)

耗尽层

N型沟道

P P

g (栅极) s (源极)

g

s

g

s

dd

( a ) ( b ) ( c )图 3-17 结型场效应管的结构示意图和符号

( a ) N 型结型场效应管的结构;( b ) N 型的符号;( c ) P 型的符号

PP Ng

d

s

Rd

iD 较大

UDD

PP Ng

d

s

Rd

iD 减小

UDD

UGG

PPg

d

s

Rd

iD≈0

UDD

UGG

( a ) ( b ) ( c )

图 3-18 结型场效应管的工作原理( a ) uGS = 0 时;( b ) uGS < 0 时;( c ) uGS 为某一负值时,导电沟道被

“夹断”

UDD

d

s

UGG

g

Rd

uo

us

iD

图 3-19 场效应管的电压放大作用

iD/mAiD/mA

UDS/V UDS/V

( a ) ( b )

IDSS

UDS= 常数

UGS (off)

-1V

-2V

预夹断轨迹

可变电阻区

恒流区

夹断区

-3V

-4V-5V

-4 0

UGS=0V

-20

图 3-20 N 沟道结型场效应管的特性曲线( a )输出特性曲线;( b )转移特性曲线

源极 s 栅极 g 漏极 d

铝 铝铝 SiO2 绝缘层

耗尽层 P 型硅衬底

衬底

d

g

sB 型衬底引线

( a ) ( b )

图 3-21 N 沟道增强型绝缘栅场效应管结构和符号( a )结构示意图;( b )符号

N 型(感生)沟道

迅速增大

id

d

UDS

UGS

+-

衬底引线

gs

+-

N+N+

衬底引线

耗尽层

二氧化硅

s g d 铝

N+N+

UDS- +

P

( a )

( c )

N+N+

耗尽层N 型(感生)沟道

s g d

UDS

UGS+-

衬底引线

N+N+

s g d

UDS

UGS+-

衬底引线

饱和

夹断区

id+-

P

( b )

( d )

图 3-22 N 沟道增强型绝缘栅场效应管的基本工作原理示意图( a ) uGS = 0 时,没有导电沟道;( b ) uGS > VT 时,出现 N 型沟道;

( c ) uDS 较小时, iD 迅速增大;( d ) uDS 较大出现夹断时, iD 趋于饱和

iD/mA

Ⅰ 区Ⅱ 区 Ⅲ 区

5V

4V

uGS=3V

uDS=10V

4 iD/mA

3

0 4 8 12 16 20 uDS/V0 2 4 6 uDS/V

2

3

1

2

1

( a ) ( b )

图 3-23 N 沟道增强型绝缘栅场效应管的特性曲线( a )输出特性曲线;( b )转移特性曲线

s gd掺杂后具有正

离子的绝缘层 二氧化硅

N 型沟道耗尽层

衬底引线

N+ N+

P

图 3-24 N 沟道耗尽型绝缘栅场效应管结构示意图